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1. (WO2014188872) ONE-PART ORGANOPOLYSILOXANE GEL COMPOSITION AND METHOD FOR CURING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/188872    International Application No.:    PCT/JP2014/062232
Publication Date: 27.11.2014 International Filing Date: 07.05.2014
IPC:
C08L 83/07 (2006.01), C08K 3/00 (2006.01), C08K 5/56 (2006.01), C08L 83/05 (2006.01)
Applicants: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 6-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000004 (JP)
Inventors: IKENO Masayuki; (JP).
MATSUDA Tsuyoshi; (JP)
Agent: KOJIMA Takashi; GINZA OHTSUKA Bldg. 2F, 16-12, Ginza 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040061 (JP)
Priority Data:
2013-107755 22.05.2013 JP
Title (EN) ONE-PART ORGANOPOLYSILOXANE GEL COMPOSITION AND METHOD FOR CURING SAME
(FR) COMPOSITION DE GEL DE POLYSILOXANE EN UNE PARTIE, ET SON PROCÉDÉ DE DURCISSEMENT
(JA) 一液型オルガノポリシロキサンゲル組成物及びその硬化方法
Abstract: front page image
(EN)A one-part organopolysiloxane gel composition comprising: (A) an organopolysiloxane comprising 80.0 to 97.0 mol% of a R2SiO unit, 1.0 to 10.0 mol% of a RSiO1.5 unit, 0.1 to 4.0 mol% of a (CH3)2(CH2=CH)SiO0.5 unit, and 0.5 to 10 mol% of a (CH3)3SiO0.5 unit; (B) an organohydrogenpolysiloxane having at least two units each represented by the formula H(R1)2SiO0.5 per molecule; and (C) a platinum complex having a β-diketone platinum complex or a cyclic diene compound as a ligand. According to the present invention, it becomes possible to impart long-term storage stability to the composition, and it also becomes possible to uniformly cure even a part of the composition which cannot be exposed to light at a temperature of 50°C or lower by irradiating the composition with light having a wavelength of 200 to 500 nm, then applying the light-irradiated composition to a desired place and then curing the applied composition.
(FR)L'invention porte sur une composition de gel de polysiloxane en une partie, comprenant : (A) un organopolysiloxane comprenant 80,0 à 97,0 % en moles d'un motif R2SiO, 1,0 à 10,0 % en moles d'un motif RSiO1.5, 0,1 à 4,0 % en moles d'un motif (CH3)2(CH2=CH)SiO0.5, et 0,5 à 10 % en moles d'un motif (CH3)3SiO0.5 ; (B) un organohydrogénopolysiloxane ayant au moins deux motifs représentés chacun par la formule H(R1)2SiO0.5 par molécule ; et (C) un complexe du platine ayant un complexe β-dicétone-platine ou un composé diène cyclique en tant que ligand. Selon la présente invention, il devient possible de conférer à la composition une stabilité au stockage de longue durée, et il devient aussi possible de durcir uniformément même une partie de la composition qui ne peut être exposée à la lumière à une température de 50°C ou moins par irradiation de la composition avec une lumière ayant une longueur d'onde de 200 à 500 nm, puis application de la composition, irradiée par la lumière, sur une zone souhaitée, puis durcissement de la composition appliquée.
(JA) (A)R2SiO単位:80.0~97.0モル%、RSiO1.5単位:1.0~10.0モル%、(CH32(CH2=CH)SiO0.5単位:0.1~4.0モル%、及び(CH33SiO0.5単位:0.5~10モル%からなるオルガノポリシロキサン、 (B)式:H(R12SiO0.5 で表される単位を1分子中に少なくとも2個有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、 (C)β-ジケトン白金錯体又は環状ジエン化合物を配位子にもつ白金錯体 を含有してなる一液型オルガノポリシロキサンゲル組成物。 本発明は、長期保存安定性を付与すると共に、該組成物に200~500nmの光を照射した後に、光照射組成物を所望の箇所に適用し、硬化させることで、光の当たらない部分も50℃以下の温度で均一に硬化させることができるものである。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)