WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2014188828) BISMUTH OXIDE-BASED ADDITIVE FOR LASER MARKING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/188828    International Application No.:    PCT/JP2014/060897
Publication Date: 27.11.2014 International Filing Date: 17.04.2014
IPC:
B23K 26/18 (2006.01), B23K 26/00 (2014.01), B32B 9/00 (2006.01), C01G 29/00 (2006.01), C09D 11/00 (2014.01), C09D 201/00 (2006.01)
Applicants: TOKAN MATERIAL TECHNOLOGY CO., LTD. [JP/JP]; 1-27, Oyodo-kita 2-Chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5318526 (JP)
Inventors: MATODA, Tatsuo; (JP).
SUZUKI, Shigeru; (JP).
SHINCHI, Taketo; (JP).
ISHIKO, Akira; (JP)
Agent: WATANABE, Akira; c/o KISHIMOTO & CO., 3rd Floor, Inaba Building, 13-18, Nishishinsaibashi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5420086 (JP)
Priority Data:
2013-106232 20.05.2013 JP
Title (EN) BISMUTH OXIDE-BASED ADDITIVE FOR LASER MARKING
(FR) ADDITIF À BASE D'OXYDE DE BISMUTH POUR UN MARQUAGE LASER
(JA) 酸化ビスマス系レーザーマーキング用添加剤
Abstract: front page image
(EN)The present invention is a bismuth oxide-based additive for laser marking comprising oxygen-deficient bismuth oxide represented by the general formula Bi2O(3-x) (x being 0.01 to 0.3, and x denoting the amount of oxygen deficiency calculated as x = 3-O1s/Bi4f×2 from the ratio (O1s/Bi4f) of the peak surface area attributed to 1s electrons of oxygen bonded to bismuth, to the peak surface area attributed to 4f electrons of bismuth obtained by x-ray electron spectrometry), wherein there is no consequence to the type or shape of the resin used, there is no undesirable coloring in a resin composition, and marking is possible with excellent blackness and contrast.
(FR)La présente invention concerne un additif à base d'oxyde de bismuth pour un marquage laser comprenant un oxyde de bismuth déficient en oxygène représenté par la formule générale Bi2O(3-x) (x étant compris entre 0,01 et 0,03 et x représentant la quantité de déficience en oxygène calculée comme suit: x = 3 - O1s/Bi4fx2 à partir du rapport (O1s/Bi4f) entre la zone de surface de crête attribuée aux électrons d'oxygène 1s liés au bismuth et la zone de surface de crête attribuée aux électrons de bismuth 4f obtenus par spectrométrie d'électrons à rayons x), selon lequel il n'y a aucune conséquence quel(le) que soit le type ou la forme de résine utilisée, il n'existe aucune coloration indésirable dans une composition de résine et un marquage présentant une couleur noire et un contraste excellents est possible.
(JA)本発明は、一般式 Bi(3-x) (ただし、xは0.01以上で且つ0.3以下であり、xは、X線光電子分光法により得られるビスマスの4f電子に帰属されるピークの面積に対する、ビスマスと結合している酸素の1s電子に帰属されるピークの面積の比(O1s/Bi4f)から、x = 3 - O1s/Bi4f × 2に従って算出される酸素欠陥量を示す)で表される酸素欠陥型酸化ビスマスからなる酸化ビスマス系レーザーマーキング用添加剤であって、使用する樹脂の種類や形状に関係なく、樹脂組成物に望ましくない着色を起こさず、且つ黒度とコントラストに優れたマーキングを可能にする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)