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Pub. No.:    WO/2014/188576    International Application No.:    PCT/JP2013/064451
Publication Date: 27.11.2014 International Filing Date: 24.05.2013
H01L 21/31 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
Applicants: SHIMADZU CORPORATION [JP/JP]; 1, Nishinokyo-kuwabaracho, Nakagyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6048511 (JP)
Inventors: OGISHI, Atsufumi; (JP).
SARUWATARI, Tetsuya; (JP).
SUZUKI, Masayasu; (JP).
Agent: MIYOSHI, Hidekazu; Toranomon Kotohira Tower, 2-8, Toranomon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Priority Data:
(JA) プラズマ処理装置
Abstract: front page image
(EN)This plasma processing apparatus is provided with: an anode electrode having mounted thereon a substrate to be processed; a cathode electrode having a through hole, which penetrates between two main surfaces that face each other with openings respectively provided therein, and which has tapered opening portions such that the diameter of the openings is larger than the diameter of an intermediate portion, said cathode electrode being disposed such that at least one of the two main surfaces faces the substrate mounted on the anode electrode; a gas supply apparatus that introduces a process gas between the anode electrode and the cathode electrode; and an alternating current power supply, which supplies alternating current power between the anode electrode and the cathode electrode, and which brings the process gas into the alternating current plasma state on the two main surfaces of the cathode electrode.
(FR)L'invention concerne un appareil de traitement au plasma comprenant : une électrode d'anode ayant un substrat à traiter monté sur elle ; une électrode de cathode ayant un trou traversant, qui pénètre entre deux surfaces principales qui sont face à face et présentent ouvertures qui y sont respectivement ménagées, et qui présente des portions d'ouverture conique de manière à ce que le diamètre des ouvertures soit plus grand que le diamètre d'une portion intermédiaire, ladite électrode de cathode étant disposée de manière à ce qu'au moins une des deux des surfaces principales soit tournée vers le substrat monté sur l'électrode d'anode ; un appareil d'alimentation en gaz qui introduit un gaz de traitement entre l'électrode d'anode et l'électrode de cathode ; et une alimentation en courant alternatif, qui fournit le courant alternatif entre l'électrode d'anode et l'électrode de cathode, et ce qui amène le gaz de traitement dans l'état de plasma de courant alternatif sur les deux surfaces principales de l'électrode de cathode.
(JA) 処理対象の基板が装着されるアノード電極と、互いに対向する2つの主面にそれぞれ開口部が設けられて2つの主面間を貫通し、且つ、開口部の口径が中間部分での直径よりも大きいように開口部分にテーパがつけられた貫通孔を有し、2つの主面の少なくとも一方がアノード電極に装着された基板と対向するように配置されたカソード電極と、アノード電極とカソード電極間にプロセスガスを導入するガス供給装置と、アノード電極とカソード電極間に交流電力を供給して、カソード電極の2つの主面上それぞれにおいてプロセスガスを交流プラズマ状態にする交流電源とを備える。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)