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1. (WO2014187624) METHOD FOR PRODUCING A POWDERY PRECURSOR MATERIAL, POWDERY PRECURSOR MATERIAL AND USE THEREOF
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/187624    International Application No.:    PCT/EP2014/057957
Publication Date: 27.11.2014 International Filing Date: 17.04.2014
IPC:
C04B 35/581 (2006.01), C04B 35/584 (2006.01), C09K 11/08 (2006.01), H01J 31/00 (2006.01)
Applicants: OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH [DE/DE]; Leibnizstr. 4 93055 Regensburg (DE)
Inventors: POHL-KLEIN, Bianca; (DE).
KECHELE, Juliane; (DE)
Agent: EPPING HERMANN FISCHER PATENTANWALTSGESELLSCHAFT MBH; Schloßschmidstr. 5 80639 München (DE)
Priority Data:
10 2013 105 304.1 23.05.2013 DE
Title (DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES PULVERFÖRMIGEN PRECURSORMATERIALS, PULVERFÖRMIGES PRECURSORMATERIAL UND SEINE VERWENDUNG
(EN) METHOD FOR PRODUCING A POWDERY PRECURSOR MATERIAL, POWDERY PRECURSOR MATERIAL AND USE THEREOF
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN MATÉRIAU PRÉCURSEUR PULVÉRULENT, MATÉRIAU PRÉCURSEUR PULVÉRULENT ET UTILISATION
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines pulverförmigen Precursormaterials der folgenden allgemeinen Zusammensetzung I oder II oder III oder IV: I: (CaySr1-y) AlSiN3:X1 II: (CabSraLi1-a-b) AISi (N1-CFC)3:X2 III : Ζ5-δΑl4-2δ Si8+2δΝ18 : X3 IV: ( Zi-dLid)5-δΑl 4-2δSi8+2δ (N1-XFX)18 : X4 mit den Verfahrensschritten: A) Herstellen einer pulverförmigen Mischung von Edukten,wobei die Edukte Ionen der oben genannten Zusammensetzungen I und/oder II und/oder III und/oder IV umfasst, B) Glühen der Mischung unter Schutzgasatmosphäre, anschließendes Mahlen, wobei im Verfahrensschritt A) als Edukt mindestens ein Siliziumnitrid mit einer spezifischen Oberfläche von größer oder gleich 5 m2/g und kleiner oder gleich 100 m2/g ausgewählt wird, wobei das Glühen im Verfahrensschritt B) bei einer Temperatur von kleiner oder gleich 1550 °C durchgeführt wird.
(EN)The invention relates to a method for producing a powdery precursor material of the following general composition I or II or III or IV: I: (CaySr1-y) AlSiN3:X1 II: (CabSraLi1-a-b) AISi (N1-CFC)3:X2 III: Ζ5-δΑl4-2δ Si8+2δΝ18 : X3 IV: ( Zi-dLid)5-δΑl 4-2δSi8+2δ (N1-XFX)18 : X4 comprising the method steps: A) producing a powdery mixture of starting materials, wherein the starting materials comprise ions of the aforementioned compositions I and/or II and/or III and/or IV, B) annealing the mixture under a protective gas atmosphere, subsequent milling, wherein, in method step A), at least one silicon nitride having a specific area of greater than or equal to 5 m2/g and smaller than or equal to 100 m2/g is selected as starting material, wherein the annealing in method step B) is carried out at a temperature of less than or equal to 1550 °C.
(FR)L'invention concerne un procédé de production d'un matériau précurseur pulvérulent de composition générale I ou II ou III ou IV suivante : I: (CaySr1-y) AlSiN3:X1; II : (CabSraLi1-a-b) AISi (N1-CFC)3:X2; III : Ζ5-δΑl4-2δ Si8+2δΝ18 : X3; IV : ( Zi-dLid)5-δΑl 4-2δSi8+2δ (N1-XFX)18 : X4. Ledit procédé comprend les étapes suivantes : A) la production d'un mélange pulvérulent d'éduits, dans lequel les éduits comprennent des ions des compositions I et/ou II et/ou III et/ou IV mentionnées ci-dessus; B) la calcination du mélange sous atmosphère de gaz protecteur, puis le broyage. A l'étape A) du procédé, on choisit comme éduit au moins un nitrure de silicium présentant une surface spécifique supérieure ou égale à 5 m2/g et inférieure ou égale à 100 m2/g. La calcination à l'étape B) du procédé est réalisée à une température inférieure ou égale à 1550 °C.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)