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1. (WO2014187619) METHOD OF CONTROLLING A RADIATION SOURCE AND LITHOGRAPHIC APPARATUS COMPRISING THE RADIATION SOURCE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/187619    International Application No.:    PCT/EP2014/057709
Publication Date: 27.11.2014 International Filing Date: 16.04.2014
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), H01S 3/225 (2006.01), H01S 3/104 (2006.01), H01S 3/0975 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventors: OP'T ROOT, Wilhelmus; (NL).
BOMMER, Adrianus; (NL).
DE JONG, Robert; (NL).
EVERTS, Frank; (NL).
GODFRIED, Herman; (NL).
STOLK, Roland; (NL).
VAN DER VEEN, Paul; (NL)
Agent: PJANOVIC, Ilija; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Priority Data:
61/825,300 20.05.2013 US
Title (EN) METHOD OF CONTROLLING A RADIATION SOURCE AND LITHOGRAPHIC APPARATUS COMPRISING THE RADIATION SOURCE
(FR) PROCÉDÉ DE COMMANDE DE SOURCE DE RAYONNEMENT ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUE COMPRENANT LA SOURCE DE RAYONNEMENT
Abstract: front page image
(EN)A method of selecting a periodic modulation (401) to be applied to a variable of a radiation source, wherein the source delivers radiation for projection onto a substrate and wherein there is relative motion between the substrate and the radiation at a scan speed, the method including: for a set of system parameters and for a position on the substrate, calculating a quantity, the quantity being a measure of the contribution to an energy dose (403) delivered to the position that arises from the modulation being applied to the variable of the source, wherein the contribution to the energy dose is calculated as a convolution of: a profile of radiation (402), and a contribution to an irradiance of radiation delivered by the source; and selecting a modulation frequency at which the quantity for the set of system parameters and the position on the substrate satisfies a certain criteria.
(FR)L'invention concerne un procédé de sélection de modulation périodique (401) à appliquer à une variable de source de rayonnement, cette dernière délivrant un rayonnement à projeter sur un substrat et présentant un mouvement relatif entre le substrat et le rayonnement à une vitesse de balayage. Le procédé consiste à calculer une quantité pour un ensemble de paramètres système et pour une position sur le substrat, la quantité étant une mesure de la contribution à une dose d'énergie (403) délivrée à la position découlant de la modulation appliquée à la variable de la source, la contribution à la dose d'énergie étant calculée en tant que convolution d'un profil de rayonnement (402), et que contribution à l'éclairement énergétique d'un rayonnement délivré par la source; et à sélectionner une fréquence de modulation à laquelle la quantité pour l'ensemble de paramètres système et la position sur le substrat satisfait un certain critère.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)