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1. (WO2014185300) METHOD FOR SUPPLYING GAS, AND PLASMA PROCESSING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/185300    International Application No.:    PCT/JP2014/062184
Publication Date: 20.11.2014 International Filing Date: 02.05.2014
IPC:
H01L 21/3065 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1 Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP)
Inventors: MIZUTANI Tomoyuki; (JP).
TSUJIMOTO Hiroshi; (JP)
Agent: HASEGAWA Yoshiki; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Marunouchi MY PLAZA (Meiji Yasuda Life Bldg.) 9th fl., 1-1, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Priority Data:
2013-101411 13.05.2013 JP
Title (EN) METHOD FOR SUPPLYING GAS, AND PLASMA PROCESSING DEVICE
(FR) PROCÉDÉ PERMETTANT D'INJECTER DU GAZ ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR PLASMA
(JA) ガスを供給する方法、及びプラズマ処理装置
Abstract: front page image
(EN)Provided is a method for supplying a gas. This method involves a step for supplying a treatment gas via a first branch line and a second branch line to a central gas inlet and a peripheral gas inlet, respectively, a step for closing the downstream valve in an additional gas gas line and filling the tube between said valve and the upstream flow rate controller with the additional gas, a step for opening the valve after filling with the additional gas, and a step for supplying high-frequency power from a high-frequency power supply to an upper electrode or a lower electrode after opening the valve.
(FR)L'invention concerne un procédé permettant d'injecter du gaz. Ce procédé comprend une étape consistant à injecter un gaz de traitement via une première ligne de dérivation et une seconde ligne de dérivation vers une admission de gaz centrale et une admission de gaz périphérique, respectivement, une étape consistant à fermer la vanne en aval dans une ligne de gaz additionnelle et à remplir le tube entre ladite vanne et le régulateur de débit en amont avec le gaz additionnel, une étape consistant à ouvrir la vanne après le remplissage de gaz additionnel, et une étape consistant à appliquer une puissance à haute fréquence provenant d'une alimentation électrique à haute fréquence à une électrode supérieure ou à une électrode inférieure après l'ouverture de la vanne.
(JA) 一実施形態においては、ガスを供給する方法が提供される。この方法は、処理ガスを第1の分岐ライン及び第2の分岐ラインを介して中央ガス導入部及び周辺ガス導入部にそれぞれ供給する工程と、付加ガス用のガスラインにおいて下流側のバルブを閉じて、当該バルブと上流の流量制御器との間の管に付加ガスを充填する工程と、付加ガスの充填後にバルブを開放する工程と、バルブの開放後に、高周波電源から上部電極及び下部電極の一方に高周波電力を供給する工程と、を含む。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)