WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2014184824) PLASMA TREATMENT DEVICE AND SEALING METHOD THEREFOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/184824    International Application No.:    PCT/JP2013/003107
Publication Date: 20.11.2014 International Filing Date: 15.05.2013
IPC:
H05H 1/46 (2006.01), C23C 16/511 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01)
Applicants: TOHOKU UNIVERSITY [JP/JP]; 1-1, Katahira 2-chome, Aoba-ku, Sendai-shi, Miyagi 9808577 (JP)
Inventors: HIRAYAMA, Masaki; (JP)
Priority Data:
Title (EN) PLASMA TREATMENT DEVICE AND SEALING METHOD THEREFOR
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR PLASMA ET SON PROCÉDÉ D'ÉTANCHÉITÉ
(JA) プラズマ処理装置およびそのシール方法
Abstract: front page image
(EN) Provided is a plasma treatment device in which the properties of a film formed by plasma treatment can be improved. This invention has: a treatment chamber (10) for defining a sealed space (11); a plasma-forming electrode (36) provided in the sealed space; an interior conductor (21) extending from the exterior of the treatment chamber (10) toward the plasma-forming electrode (36) through an opening (13h) formed in the treatment chamber (10); exterior conductors (22, 13) surrounding the periphery of the interior conductor (21), and defining the opening (13h) and a void (23) bounded on one side by the interior conductor (21); a sealing member (60) for dividing the void (23) into an atmosphere-side space and a space communicating with the sealed space (11), the sealing member (60) being formed from an insulator and being connected to the interior conductor (21) and the exterior conductors (22, 13); and an anti-discharge insulator (100) for filling a portion of the void (23) corresponding to the space formed on the sealed-space (11) side relative to the sealing member (60).
(FR) L'invention porte sur un dispositif de traitement par plasma dans lequel les propriétés d'un film formé par traitement par plasma peuvent être améliorées. Cette invention possède : une chambre de traitement (10) pour définir un espace scellé de manière étanche (11) ; une électrode de formation de plasma (36) disposée dans l'espace scellé de manière étanche ; un conducteur intérieur (21) s'étendant depuis l'extérieur de la chambre de traitement (10) vers l'électrode de formation de plasma (36) à travers une ouverture (13h) formée dans la chambre de traitement (10) ; des conducteurs extérieurs (22,13) entourant la périphérie du conducteur intérieur (21), et définissant l'ouverture (13h) et un vide (23) lié sur un côté par le conducteur intérieur (21) ; un élément d'étanchéité (60) pour diviser le vide (23) en un espace côté atmosphère et un espace communiquant avec l'espace scellé de manière étanche (11), l'élément d'étanchéité (60) étant formé à partir d'un isolant et étant connecté au conducteur intérieur (21) et aux conducteurs extérieurs (22,13) ; et un isolant anti-décharge (100) pour remplir une partie du vide (23) correspondant à l'espace formé sur le côté d'espace scellé de manière étanche (11) par rapport à l'élément d'étanchéité (60).
(JA) プラズマ処理により形成される膜の特性を改善できるプラズマ処理装置を提供する。密閉空間(11)を画定する処理チャンバ(10)と、密閉空間内に設けられたプラズマ形成用電極(36)と、処理チャンバ(10)の外部から、処理チャンバ(10)に形成された開口(13h)を通じて、プラズマ形成用電極(36)に向かって延在する内部導体(21)と、内部導体(21)の周囲を囲み、内部導体(21)との間に空隙(23)を画定するとともに、開口(13h)を画定する外部導体(22,13)と、内部導体(12)および外部導体(22,13)に接続されて、空隙(23)を大気側の空間と密閉空間(11)に連通する空間とに隔てるための、絶縁体で形成されたシール部材(60)と、空隙(23)のうち、シール部材(60)に対して密閉空間(11)側に形成される空間を埋める放電防止用絶縁体(100)とを有する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)