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1. (WO2014184702) CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING COMPOSITIONS COMPRISING ONE OR MORE POLYMERS SELECTED FROM THE GROUP CONSISTING OF N-VINYL-HOMOPOLYMERS AND N-VINYL COPOLYMERS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/184702    International Application No.:    PCT/IB2014/061200
Publication Date: 20.11.2014 International Filing Date: 05.05.2014
IPC:
C09G 1/02 (2006.01), C09G 1/04 (2006.01), C09G 1/00 (2006.01), C09K 3/14 (2006.01)
Applicants: BASF SE [DE/DE]; 67056 Ludwigshafen (DE).
BASF (CHINA) COMPANY LIMITED [CN/CN]; 300 Jiangxinsha Road Shanghai, 200137 (CN) (MN only)
Inventors: LAN, Yongqing; (DE).
PRZYBYLSKI, Peter; (DE).
BAO, Zhenyu; (US).
PRöLß, Julian; (DE)
Common
Representative:
BASF SE; 67056 Ludwigshafen (DE)
Priority Data:
13167872.4 15.05.2013 EP
Title (EN) CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING COMPOSITIONS COMPRISING ONE OR MORE POLYMERS SELECTED FROM THE GROUP CONSISTING OF N-VINYL-HOMOPOLYMERS AND N-VINYL COPOLYMERS
(FR) COMPOSITIONS DE POLISSAGE MÉCANO-CHIMIQUE COMPRENANT UN OU PLUSIEURS POLYMÈRES CHOISIS DANS LE GROUPE CONSTITUÉ PAR LES HOMOPOLYMÈRES ET LES COPOLYMÈRES DE N-VINYLE
Abstract: front page image
(EN)Described is a chemical-mechanical polishing (CMP) composition comprising the following components: (A) surface modified silica particles having a negative zeta potential of -15 mV or below at a pH in the range of from 2 to 6 (B) one or more polymers selected from the group consisting of N-vinyl-homopolymers and N- vinyl copolymers (C) water (D) optionally one or more further constituents, wherein the pH of the composition is in the range of from 2 to 6.
(FR)Cette invention concerne une composition de polissage mécano-chimique (CMP) comprenant les composants suivants : (A) des particules de silice modifiées en surface ayant un potentiel zêta négatif de -15 mV ou moins à un pH dans la plage de 2 à 6, (B) un ou plusieurs polymères choisis dans le groupe constitué par les homopolymères et les copolymères de N-vinyle, (C) de l'eau, (D) éventuellement un ou plusieurs autres constituants, le pH de la composition étant dans la plage de 2 à 6.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)