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1. (WO2014181274) AN IMPROVED PRESSURE SENSOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/181274    International Application No.:    PCT/IB2014/061282
Publication Date: 13.11.2014 International Filing Date: 08.05.2014
IPC:
G01L 9/00 (2006.01)
Applicants: MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 10-1, Higashikotari 1-chome Nagaokakyo-shi Kyoto, 617-8555 (JP)
Inventors: KUISMA, Heikki; (FI)
Priority Data:
20135487 10.05.2013 FI
Title (EN) AN IMPROVED PRESSURE SENSOR
(FR) CAPTEUR DE PRESSION AMELIORE
Abstract: front page image
(EN)A microelectromechanical pressure sensor structure wherein the length of the diaphragm is at least three times the width of the diaphragm. The oblong diaphragm experiences a minimized difference between lateral bending of the wafer and of the diaphragm along the width of the diaphragm. In a perpendicular direction, the diaphragm is at least three times longer due to which it accurately aligns with the bending form of the wafer. Due to this, the total error caused by bending of the structure is significantly reduced and a more robust structure is achieved. At the same time, the longer diaphragm provides mode deflected area for detection and thus significantly improves sensitivity of the device.
(FR)L'invention concerne une structure de capteur microélectromécanique, la longueur du diaphragme étant au moins trois fois la largeur du diaphragme. Le diaphragme oblong a une différence réduite au minimum entre une courbure latérale de la tranche et du diaphragme le long de la largeur du diaphragme. Dans une direction perpendiculaire, le diaphragme est au moins trois fois plus long, du fait qu'il s'aligne avec précision avec la courbure de la tranche. A cet effet, l'erreur totale causée par la courbure de la structure est considérablement réduite, et une structure plus robuste est obtenue. En même temps, le diaphragme plus long forme une région déviée en vue d'une détection, et améliore ainsi considérablement la sensibilité du dispositif.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)