WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2014180684) ALIGNMENT SENSOR, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND ALIGNMENT METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/180684    International Application No.:    PCT/EP2014/058502
Publication Date: 13.11.2014 International Filing Date: 25.04.2014
IPC:
G03F 9/00 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventors: DEN BOEF, Arie, Jeffrey; (NL).
MATHIJSSEN, Simon,; (NL).
TINNEMANS, Patricius; (NL)
Agent: VERDONK, Peter; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Priority Data:
61/820,568 07.05.2013 US
Title (EN) ALIGNMENT SENSOR, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND ALIGNMENT METHOD
(FR) CAPTEUR D'ALIGNEMENT, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ D'ALIGNEMENT
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is an alignment sensor comprising, and associated method comprising an illumination source, such as a white light source, having an illumination grating operable to diffract higher order radiation at an angle dependent on wavelength; and illumination optics to deliver the diffracted radiation onto an alignment grating from at least two opposite directions. For every component wavelength incident on the alignment grating, and for each direction, the zeroth diffraction order of radiation incident from one of the two opposite directions overlaps a higher diffraction order of radiation incident from the other direction. This optically amplifies the higher diffraction orders with the overlapping zeroth orders.
(FR)La présente invention concerne un capteur d'alignement et un procédé associé qui comprennent : une source d'éclairage, telle qu'une source de lumière blanche, ayant un réseau d'éclairage qui permet de diffracter un rayonnement d'ordre supérieur selon un angle dépendant de la longueur d'onde; et des optiques d'éclairage conçues pour émettre le rayonnement diffracté sur un réseau d'alignement depuis au moins deux directions opposées. Pour chaque longueur d'onde composante atteignant le réseau d'alignement, et pour chaque direction, l'ordre de diffraction zéro du rayonnement incident en provenance d'une des deux directions opposées recouvre un ordre de diffraction supérieur du rayonnement incident en provenance de l'autre direction. Cela amplifie, sur le plan optique, les ordres de diffraction supérieurs avec les ordres zéro qui les recouvrent.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)