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1. (WO2014180595) GALVANIC NICKEL OR NICKEL ALLOY ELECTROPLATING BATH FOR DEPOSITING A SEMI-BRIGHT NICKEL OR NICKEL ALLOY, METHOD FOR ELECTROPLATING AND USE OF SUCH A BATH AND COMPOUNDS FOR THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/180595    International Application No.:    PCT/EP2014/055649
Publication Date: 13.11.2014 International Filing Date: 20.03.2014
IPC:
C25D 3/18 (2006.01), C25D 3/56 (2006.01)
Applicants: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH [DE/DE]; Erasmusstraße 20 10553 Berlin (DE)
Inventors: SCHULZ, Klaus-Dieter; (DE).
HARTMANN, Dr. Philip; (DE).
WACHTER, Philipp; (DE).
BRIESE, Mike; (DE).
BRUNNER, Dr. Heiko; (DE).
RICHTEr, Richard; (DE).
KOHLMANN, Lars; (DE)
Agent: WONNEMANN, Jörg; Atotech Deutschland GmbH Erasmusstraße 20 10553 Berlin (DE)
Priority Data:
13167074.7 08.05.2013 EP
Title (EN) GALVANIC NICKEL OR NICKEL ALLOY ELECTROPLATING BATH FOR DEPOSITING A SEMI-BRIGHT NICKEL OR NICKEL ALLOY, METHOD FOR ELECTROPLATING AND USE OF SUCH A BATH AND COMPOUNDS FOR THE SAME
(FR) BAIN GALVANOPLASTIQUE À BASE DE NICKEL GALVANIQUE OU D'UN ALLIAGE DE NICKEL POUR DÉPOSER UN NICKEL OU UN ALLIAGE DE NICKEL SEMI-BRILLANT, PROCÉDÉ GALVANOPLASTIQUE ET UTILISATION D'UN TEL BAIN ET COMPOSÉS POUR LEDIT BAIN
Abstract: front page image
(EN)The present invention is related to a galvanic nickel or nickel alloy electroplating bath for depositing a semi-bright nickel or nickel alloy coating characterized in that the electroplating bath comprises at least one compound having the general formula (I) wherein R1 = C1 – C18 hydrocarbon moiety substituted with a SO3- group, C1 – C18 hydrocarbon moiety substituted with a carboxylic group or C1 – C18 hydrocarbon moiety substituted with at least an aromatic and/or a heteroaromatic group; R2 = NR3R4 moiety, OR5 moiety, or cyclic NR6 moiety, wherein R3, R4, R5= hydrogen or C1 – C18 hydrocarbon moiety or C1 – C18 hydrocarbon moiety substituted with at least an aromatic and/or a heteroaromatic group, wherein R3, R4 and R5 are identical or different; R6 = C3 – C8 hydrocarbon moiety or C3 – C8 hydrocarbon moiety, wherein at least one carbon atom is substituted by a heteroatom; and n = 1 – 3.
(FR)La présente invention concerne un bain galvanoplastique à base de nickel galvanique ou d'un alliage de nickel pour déposer un nickel ou un alliage de nickel semi-brillant, caractérisé en ce que ledit bain galvanoplastique comprend au moins un composé présentant la formule générale (I), où R1 = un groupe hydrocarboné C1-C18 substitué par un groupe SO3, un groupe hydrocarboné C1-C18 substitué par un groupe carboxyle ou un groupe hydrocarboné C1-C18 substitué par au moins un groupe aromatique et/ou un groupe hétéroaromatique ; R2 = un groupe NR3R4, un groupe OR5 ou un groupe NR6 cyclique, où R3, R4, R5 = de l'hydrogène ou un groupe hydrocarboné C1-C18 ou un groupe hydrocarboné C1-C18 substitué par au moins un groupe aromatique et/ou un groupe hétéroaromatique, où R3, R4 et R5 sont identiques ou différents ; R6 = un groupe hydrocarboné C3-C8 ou un groupe hydrocarboné C3-C8 dont au moins un atome est substitué par un hétéroatome ; et n = 1 à 3.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)