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1. (WO2014180268) ULTRAHIGH CURRENT DENSITY ELECTROLYSIS OR ELECTRO-DEPOSITION GROOVE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/180268    International Application No.:    PCT/CN2014/076475
Publication Date: 13.11.2014 International Filing Date: 29.04.2014
IPC:
C25C 7/00 (2006.01)
Applicants: XIANG GUANG COPPER CO., LTD. [CN/CN]; 1 Xiangguang Road, Shifo Town Yanggu County, Shandong 252327 (CN).
HANGZHOU SANNAI ENVIRONMENTAL TECHNOLOGY CO,LTD [CN/CN]; Room 1115 No 337 Shaoxing Road, Modern Star Plaza Hangzhou, Zhejiang 310014 (CN).
METTOP GMBH [AT/AT]; Leoben (AT)
Inventors: ZHOU, Songlin; (CN).
LIN, Jianping; (CN).
FILZWIESER, Andreas; (AT).
WANG, Yamin; (CN).
LIU, Yan; (CN).
NING, Wantao; (CN).
PAN, Xia; (CN).
YANG, Jiating; (CN).
WANG, Zhipu; (CN)
Agent: UNITALEN ATTORNEYS AT LAW; 7th Floor, Scitech Place No.22, Jian Guo Men Wai Ave., Chaoyang District Beijing 100004 (CN)
Priority Data:
201310163251.7 06.05.2013 CN
Title (EN) ULTRAHIGH CURRENT DENSITY ELECTROLYSIS OR ELECTRO-DEPOSITION GROOVE
(FR) ÉLECTROLYSE OU RAINURE DE DÉPÔT ÉLECTROCHIMIQUE À DENSITÉ DE COURANT ULTRAHAUTE
(ZH) 超高电流密度电解或电积槽
Abstract: front page image
(EN)An ultrahigh current density electrolysis or electro-deposition groove comprises a groove body. The groove body is provided with a liquid inlet; a flange is disposed outside the liquid inlet; a panel is disposed on an inner wall of the groove body; a closed cavity is formed by the panel and the inner wall of the groove body; the closed cavity is communicated with the liquid inlet on the groove body; the panel is provided with an electrolyte spraying device and a polar plate limiting device; an anode plate and a cathode plate are placed in the groove body; and a liquid discharging device is disposed on the groove body. In the present invention, a liquid supplying device is formed by the panel, the inner wall of the groove body, and the closed cavity formed by the panel and the inner wall of the groove body. According to the present invention, the liquid supplying device is embedded into the inner wall of the groove body, and a liquid supplying manner in which the bottom of the liquid supplying device is parallel to a polar plate is utilized to ensure an electrolyte circulation requirement of electrolysis or electro-deposition production with an ultrahigh current density; in addition, the polar plate does not contact the liquid supplying device embedded into the inner wall of the groove body, so that the safety of the liquid supplying device is ensured and the production is smoothly and safely operated.
(FR)L'invention concerne une électrolyse ou rainure de dépôt électrochimique à densité de courant ultrahaute comprenant un corps à rainure. Le corps à rainure est muni d'une entrée de liquide; une bride est disposée à l'extérieur de l'entrée de liquide; un panneau est disposé sur une paroi interne du corps à rainure; une cavité fermée est formée par le panneau et la paroi interne du corps à rainure; la cavité fermée est en communication avec l'entrée de liquide sur le corps à rainure; le panneau est muni d'un dispositif de pulvérisation d'un électrolyte et d'un dispositif de limitation à plaque polaire; une plaque d'anode et une plaque de cathode sont placées dans le corps à rainure; et un dispositif d'évacuation de liquide est disposé sur le corps à rainure. Dans la présente invention, un dispositif d'alimentation en liquide est formé par le panneau, la paroi interne du corps à rainure et la cavité fermée formée par le panneau et la paroi interne du corps à rainure. Selon la présente invention, le dispositif d'alimentation en liquide est intégré dans la paroi interne du corps à rainure et une manière d'alimentation en liquide dans laquelle le fond du dispositif d'alimentation en liquide est parallèle à une plaque polaire est utilisée pour assurer un besoin de circulation de l'électrolyte pour une électrolyse ou pour une production de dépôt électrochimique à une densité de courant ultrahaute; de plus la plaque polaire n'est pas en contact avec le dispositif d'alimentation en liquide intégré dans la paroi interne du corps à rainure de telle sorte que la sécurité du dispositif d'alimentation en liquide est assurée et que la production est réalisée en douceur et en sécurité.
(ZH)一种超高电流密度电解或电积槽,包括槽体,所述槽体上设置有进液口,所述进液口的外部设置有法兰;所述槽体内侧壁上设置有面板,所述面板与槽体内侧壁形成封闭空腔,所述封闭空腔与所述槽体上的进液口相通,所述面板上设置有电解液喷射装置和极板限位装置;所述槽体内放置有阳极板和阴极板;所述槽体上设置有出液装置。在本发明中,面板、槽体内侧壁及两者形成的封闭空腔构成一个供液装置。本发明将所述供液装置镶嵌在槽体内侧壁上,利用底部平行于极板的供液方式,保证超高电流密度下电解或电积生产所需要的电解液循环要求,同时,极板不会触及镶嵌在槽体内侧壁上的供液装置,从而保证了供液装置的安全性,使生产顺利、安全运行。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)