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1. (WO2014180041) DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/180041    International Application No.:    PCT/CN2013/078079
Publication Date: 13.11.2014 International Filing Date: 26.06.2013
IPC:
H01L 27/12 (2006.01), G02F 1/1362 (2006.01), G02F 1/1368 (2006.01)
Applicants: SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; Shi, Beina No.9-2 Tangming Rd, Guangming New District Shenzhen, Guangdong 518132 (CN)
Inventors: DONG, Chengcai; (CN)
Agent: ESSEN PATENT & TRADEMARK AGENCY; Cyber Times Tower A, Room 1409 Tian'an Cyber Park, Futian District Shenzhen, Guangdong 518040 (CN)
Priority Data:
201310167898.7 09.05.2013 CN
Title (EN) DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
(FR) DISPOSITIF D'AFFICHAGE ET SON PROCEDE DE FABRICATION
(ZH) 显示装置及其制造方法
Abstract: front page image
(EN)Provided are a display device and a manufacturing method thereof. In a display device (100), a pixel unit of a display substrate (101) comprises a gate line material layer (107), a transparent electrode layer (105), a semiconductor layer (111), and a metal layer (110), the semiconductor layer (111) and the metal layer (110) being both provided between the gate line material layer (107) and the transparent electrode layer (105), and the meat layer (110) being provided above the semiconductor layer (111). Such a structure can reduce the stored capacitance on the display device, so as to reduce the resistance-capacitance delay of a scanning signal on a gate line.
(FR)L'invention porte sur un dispositif d'affichage et sur un procédé de fabrication de celui-ci. Dans un dispositif d'affichage (100), une unité de pixel d'un substrat d'affichage (101) comprend une couche de matériau de ligne de grille (107), une couche d'électrode transparente (105), une couche de semi-conducteur (111), et une couche métallique (110), la couche de semi-conducteur (111) et la couche métallique (110) étant disposées toutes les deux entre la couche de matériau de ligne de grille (107) et la couche d'électrode transparente (105), et la couche métallique (110) étant disposée au-dessus de la couche de semi-conducteur (111). Une telle structure peut réduire la capacité stockée sur le dispositif d'affichage, afin de réduire le retard de résistance-capacité d'un signal de balayage sur une ligne de grille.
(ZH)提供一种显示装置及其制造方法。在显示装置(100)中,显示基板(101)的像素单元包括:栅极线材料层(107)、透明电极层(105)、半导体层(111)、金属层(110);半导体层(111)与金属层(110)均设置于栅极线材料层(107)与透明电极层(105)之间;金属层(110)位于半导体层(111)的上方。该结构可使显示装置上的储存电容较小,进而减小栅极线上的扫描信号的阻容延迟。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)