WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2014178332) GAS BARRIER FILM AND METHOD FOR PRODUCING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/178332    International Application No.:    PCT/JP2014/061624
Publication Date: 06.11.2014 International Filing Date: 24.04.2014
IPC:
B32B 9/00 (2006.01), B05D 3/06 (2006.01), B05D 7/24 (2006.01), H01L 31/02 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/02 (2006.01)
Applicants: KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 2-7-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015 (JP)
Inventors: NISHIO, Shoji; (JP)
Agent: HATTA & ASSOCIATES; Dia Palace Nibancho, 11-9, Nibancho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020084 (JP)
Priority Data:
2013-096587 01.05.2013 JP
Title (EN) GAS BARRIER FILM AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) FILM DE BARRIÈRE AUX GAZ ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) ガスバリア性フィルムおよびその製造方法
Abstract: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a gas barrier film which is obtained by forming a second barrier layer from a coating liquid containing a polysilazane on a vapor deposition film, and which exhibits excellent adhesion of the barrier layer and is free from a composition change even if exposed to high temperature and high humidity, thereby maintaining high barrier properties. A gas barrier film according to the present invention is characterized by comprising a first barrier layer (a first inorganic layer) that is formed on at least one surface of a base (a supporting body) by a vapor deposition method, and a second barrier layer (a second inorganic layer) that is formed on the first inorganic layer by modifying a polysilazane coating film. This gas barrier film is also characterized in that the polysilazane coating film contains nanoparticles of a metal oxide and/or a metal nitride and the modification of the polysilazane coating film is carried out by irradiating the polysilazane coating film with vacuum ultraviolet light having a wavelength of 200 nm or less.
(FR)L'objectif de la présente invention consiste à produire un film de barrière aux gaz qui est obtenu par la formation d'une seconde couche de barrière à partir d'un liquide de revêtement contenant un polysilazane sur un film de dépôt en phase vapeur, et qui présente une excellente adhérence de la couche de barrière et est dépourvu d'un changement de composition même s'il est exposé à une température élevée et à une humidité élevée, ce qui permet de maintenir des propriétés de barrière élevées. Un film de barrière aux gaz selon la présente invention est caractérisé en ce qu'il comprend une première couche de barrière (une première couche inorganique) qui est formée sur au moins une surface d'une base (un corps de support) par un procédé de dépôt en phase vapeur, et une seconde couche de barrière (une seconde couche inorganique) qui est formée sur la première couche inorganique par modification d'un film de revêtement de polysilazane. Ce film de barrière aux gaz est également caractérisé en ce que le film de revêtement de polysilazane contient des nanoparticules d'un oxyde de métal et/ou d'un nitrure de métal et la modification du film de revêtement de polysilazane est réalisée par l'exposition du film de revêtement de polysilazane à une lumière ultraviolette sous vide ayant une longueur d'onde de 200 nm ou moins.
(JA)本発明は、蒸着膜上にポリシラザンを含む塗布液から製膜した第2のバリア層を形成し、バリア層の密着性に優れ、高温高湿下にさらしても組成変化が起こらず、高いバリア性を維持するガスバリア性フィルムを提供することを目的とする。本発明のガスバリア性フィルムは、基材(支持体)の少なくとも一方の面に蒸着法で形成した第1のバリア層(第1無機層)と、前記第1無機層上にポリシラザン塗布膜を改質することにより形成した第2のバリア層(第2無機層)とを含み、前記ポリシラザン塗布膜は、金属酸化物及び金属窒化物の少なくともいずれか1種類のナノ粒子を含有し、前記ポリシラザン塗布膜の改質は前記ポリシラザン塗布膜に波長200nm以下の真空紫外光を照射することにより行うことを特徴とする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)