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1. (WO2014178160) FILM FORMATION DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/178160    International Application No.:    PCT/JP2014/000693
Publication Date: 06.11.2014 International Filing Date: 10.02.2014
IPC:
C23C 16/44 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP)
Inventors: NARUSHIMA, Kensaku; (JP).
TORIYA, Daisuke; (JP).
ASAKURA, Kentaro; (JP).
MURAKAMI, Seishi; (JP)
Agent: INOUE, Toshio; 601, Storktower Odori-Park 3, 2-15-1, Yayoicho, Naka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2310058 (JP)
Priority Data:
2013-095558 30.04.2013 JP
2013-095548 30.04.2013 JP
Title (EN) FILM FORMATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜装置
Abstract: front page image
(EN)[Problem] To provide a film formation device, which is easy to assemble and maintain and is capable of limiting the penetration of reactant gas into the bellows. [Solution] An elevating shaft (23), which is disposed inside a processing vessel (1) in which a reactant gas is supplied to the surface of a substrate (W) under a vacuum atmosphere and film formation is performed, is provided so as to extend in the vertical direction while supporting a loading tray (2) on which the substrate (W) is loaded from the lower surface thereof, passes through a through hole (15) provided in the processing vessel (1) and is connected to an external elevating mechanism. A bellows (231) covers the vicinity of the elevating shaft (23) from the side and maintains the vacuum atmosphere inside the processing vessel (1). A lid member (41) is disposed so as to surround the elevating shaft (23). A purge gas-supplying section (63b) supplies a purge gas into the bellows (231) to form a stream of gas that flows toward the processing vessel (1) through the gap between the elevating shaft (23) and the lid member (41).
(FR)L'invention a pour objet un dispositif de formation de film, qui est facile à assembler et à entretenir et qui est apte à limiter la pénétration de gaz réactif dans le soufflet. Selon l'invention, un arbre élévateur (23) qui est disposé à l'intérieur d'une enceinte de traitement (1) dans laquelle un gaz réactif est apporté à la surface d'un substrat (W) sous une atmosphère de vide et une formation de film est effectuée, est disposé afin de s'étendre dans la direction verticale tout en supportant un plateau de chargement (2) sur lequel le substrat (W) est chargé à partir de sa surface inférieure, passe dans un trou débouchant (15) pratiqué dans la cuve de traitement (1) et est raccordé à un mécanisme élévateur externe. Un soufflet (231) recouvre le voisinage de l'arbre élévateur (3) sur le côté et maintient l'atmosphère de vide à l'intérieur de l'enceinte de traitement (1). Un élément couvercle (41) est disposé de façon à entourer l'arbre élévateur (23). Une section d'apport de gaz de purge (63b) introduit un gaz de purge dans le soufflet (231) pour former un courant de gaz qui circule vers l'enceinte de traitement (1) en passant par l'espace entre l'arbre élévateur (23) et l'élément couvercle (41).
(JA)【課題】組み立てやメンテナンスなどが容易であり、また、ベローズ内への反応ガスの進入を抑制することが可能な成膜装置を提供する。 【解決手段】真空雰囲下で基板Wの表面に反応ガスを供給して成膜処理が行われる処理容器1内に配置された昇降軸23は、基板Wが載置される載置台2を下面側から支持した状態で上下方向に伸びるように設けられ、処理容器1に設けられた貫通口15を通って外部の昇降機構に接続されている。ベローズ231は、昇降軸23の周囲を側方から覆って処理容器1内を真空雰囲気に保ち、蓋部材41は、昇降軸23を囲むように配置され、パージガス供給部63bは昇降軸23と蓋部材41との間の隙間を介して処理容器1へと流れるガスの流れを形成するために、ベローズ231内にパージガスを供給する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)