WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2014176822) EXPOSURE SYSTEM, EXPOSURE METHOD AND MASK SUPPORT STRUCTURE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/176822    International Application No.:    PCT/CN2013/078230
Publication Date: 06.11.2014 International Filing Date: 27.06.2013
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015 (CN).
BEIJING BOE DISPLAY TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; No.118 Jinghaiyilu, BDA Beijing 100176 (CN)
Inventors: ZHANG, Jikai; (CN).
WU, Hongjiang; (CN).
LI, Min; (CN).
WAN, Jiyu; (CN).
YANG, Tonghua; (CN).
ZHA, Changjun; (CN)
Agent: LIU, SHEN & ASSOCIATES; 10th Floor, Building 1, 10 Caihefang Road, Haidian District Beijing 100080 (CN)
Priority Data:
201310156077.3 28.04.2013 CN
Title (EN) EXPOSURE SYSTEM, EXPOSURE METHOD AND MASK SUPPORT STRUCTURE
(FR) SYSTÈME D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET STRUCTURE DE SUPPORT DE MASQUE
(ZH) 曝光系统、曝光方法和掩模支撑结构
Abstract: front page image
(EN)An exposure system, an exposure method and a mask plate support structure. The exposure system comprises: a support structure (5) used for supporting a mask plate (1), and a base stage (6) used for arranging a substrate (7), wherein the support structure (5) supports the mask plate (1), enabling the mask plate (1) to be obliquely set to an angle of θ relative to a horizontal plane, and the base stage (6) supports the substrate (7) , enabling the substrate (7) parallel to the mask plate (1). This structure can effectively reduce the sag amount of the mask plate.
(FR)L'invention porte sur un système d'exposition, un procédé d'exposition et une structure de support de plaque de masque. Le système d'exposition comprend : une structure de support (5) utilisée pour porter une plaque de masque (1), et un étage de base (6) utilisé pour agencer un substrat (7), la structure de support (5) supportant la plaque de masque (1), permettant à la plaque de masque (1) d'être réglée de manière oblique à un angle de θ par rapport à un plan horizontal, et l'étage de base (6) supportant le substrat (7), permettant au substrat (7) d'être parallèle à la plaque de masque (1). Cette structure peut réduire efficacement la quantité d'affaissement de la plaque de masque.
(ZH)一种曝光系统、曝光方法和掩模板支撑结构。曝光系统包括:用于支撑掩模板(1)的支撑结构(5)和用于设置基板(7)的基台(6),其中,支撑结构(5)支撑掩模板(1),使得掩模板(1)相对于水平面倾斜设定角度θ,并且基台(6)支撑基板(7),使得基板(7)与掩模板(1)平行。这种结构可以有效地减小掩模板的下垂量。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)