WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2014176816) MONITORING METHOD AND MONITORING DEVICE FOR FOREIGN SUBSTANCE BAD POINT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/176816    International Application No.:    PCT/CN2013/077523
Publication Date: 06.11.2014 International Filing Date: 20.06.2013
IPC:
H01L 21/66 (2006.01)
Applicants: HEFEI BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; No.2177 Tonglingbei Road Hefei, Anhui 230012 (CN).
BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015 (CN)
Inventors: JANG, Jongseok; (CN).
GAO, Zhangfei; (CN).
LIU, Junhao; (CN)
Agent: LIU, SHEN & ASSOCIATES; 10th Floor, Building 1, 10 Caihefang Road, Haidian District Beijing 100080 (CN)
Priority Data:
201310156281.5 28.04.2013 CN
Title (EN) MONITORING METHOD AND MONITORING DEVICE FOR FOREIGN SUBSTANCE BAD POINT
(FR) PROCÉDÉ DE CONTRÔLE ET DISPOSITIF DE CONTRÔLE POUR MAUVAIS POINT DE SUBSTANCE ÉTRANGÈRE
(ZH) 一种异物不良点监控方法及监控装置
Abstract: front page image
(EN)A monitoring method and monitoring device for a foreign substance bad point. The monitoring method for a foreign substance bad point comprises: acquiring first location information about each foreign substance bad point in the process of processing a large substrate, and a correlation between the first location information about the foreign substance bad point and a preparation process of producing the foreign substance bad point; pre-dividing a plurality of display screen areas arranged in an array in the large substrate; acquiring second location information about each foreign substance bad point existing in display areas of one or more display screen areas, after the processing of the large substrate is completed; and matching the second location information with the first location information, and when the second location information successfully matches the first location information, determining the preparation process for producing the foreign substance bad point by means of the correlation.
(FR)L'invention concerne un procédé de contrôle et un dispositif de contrôle pour un mauvais point de substance étrangère. Le procédé de contrôle pour un mauvais point de substance étrangère consiste : à acquérir de premières informations d'emplacement concernant chaque mauvais point de substance étrangère dans le processus de traitement d'un large substrat et une corrélation entre les premières informations d'emplacement concernant le mauvais point de substance étrangère et un processus de préparation produisant le mauvais point de substance étrangère ; à prédiviser une pluralité de zones d'écran d'affichage agencées en matrice dans le large substrat ; à acquérir de secondes informations d'emplacement concernant chaque mauvais point de substance étrangère dans des zones d'affichage d'une ou plusieurs zone(s) d'écran d'affichage, après que le traitement du large substrat est terminé ; et à apparier les secondes informations d'emplacement avec les premières informations d'emplacement, et quand l'appariement des secondes informations d'emplacement et des premières informations d'emplacement est réussi, à déterminer le processus de préparation qui produit le mauvais point de substance étrangère au moyen de la corrélation.
(ZH)一种异物不良点监控方法及监控装置,其中上述异物不良点监控方法包括:获取大基板加工过程中各个异物不良点的第一位置信息以及该异物不良点的第一位置信息与产生该异物不良点的制备工序之间的对应关系;大基板内预先划分有多个呈阵列排布的显示屏区域;获取大基板加工完成后一个或多个显示屏区域中的显示区域内存在的各个异物不良点的第二位置信息;将第二位置信息与第一位置信息进行匹配,当第二位置信息与第一位置信息匹配成功时,通过对应关系确定产生该异物不良点的制备工序。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)