(DE) Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer selektiven Emitterstruktur (8) auf einer Nutzseite (3) einer Solarzelle (1), wobei die Emitterstruktur (8) eine dotierte Emitterschicht (4) und mehrere auf der Emitterschicht angeordnete Kontaktelemente (5), insbesondere Kontaktfinger, aufweist, und wobei die Emitterschicht (4) im Bereich unterhalb der Kontaktelemente (5) mit einer höheren Dotierung versehen ist als im Bereich zwischen den Kontaktelementen (5). Folgende Schritte sind vorgesehen: a) Bereitstellen der Solarzelle (1) mit einer insgesamt dotierten Emitterschicht, b) Herstellen der Kontaktelemente (5) auf der Emitterschicht (4), und c) verringern der Dotierung der Emitterschicht (4) im Bereich zwischen den Kontaktelementen (5) durch ätzende Bearbeitung der gesamten Nutzseite (3) der Solarzelle (1). Ferner betrifft die Erfindung eine Vorrichtung sowie eine Solarzelle.
(EN) The invention relates to a method for producing a selective emitter structure (8) on a useful side (3) of a solar cell (1), wherein the emitter structure (8) comprises a doped emitter layer (4) and several contact elements (5), in particular contact fingers, arranged on the emitter layer, and wherein the emitter layer (4) is provided with higher doping in the region below the contact elements (5) than in the region between the contact elements (5). The following steps are provided: a) providing the solar cell (1) having an emitter layer that is doped overall, b) producing the contact elements (5) on the emitter layer (4), and c) reducing the doping of the emitter layer (4) in the region between the contact elements (5) by an etching processing of the entire useful side (3) of the solar cell (1). The invention further relates to a device and a solar cell.
(FR) L'invention concerne un procédé permettant de fabriquer une structure émettrice (8) sélective se trouvant sur une face utile (3) d'une cellule solaire (1), la structure émettrice (8) comportant une couche émettrice (4) dopée et plusieurs éléments de contact (5), s'agissant notamment de doigts de contact, qui sont disposés sur ladite couche émettrice. Dans la zone en-dessous des éléments de contact (5), la couche émettrice (4) présente un dopage plus important que dans la zone entre les éléments de contact (5). Ledit procédé comporte les étapes consistant à : a) fournir la cellule solaire (1) comportant une couche émettrice pourvue d'un dopage global, b) réaliser les éléments de contact (5) sur la couche émettrice (4), et c) diminuer le dopage de la couche émettrice (4) dans la zone entre les éléments de contact (5) en soumettant l'intégralité de la face utile (3) de la cellule solaire (1) à un traitement par gravure chimique. En outre, l'invention concerne un dispositif ainsi qu'une cellule solaire.