WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2013163622) SYSTEM ARCHITECTURE FOR VACUUM PROCESSING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/163622    International Application No.:    PCT/US2013/038530
Publication Date: 31.10.2013 International Filing Date: 26.04.2013
IPC:
B05D 3/00 (2006.01)
Applicants: INTEVAC, INC. [US/US]; 3560 Bassett Street Santa Clara, CA 95054 (US).
BLUCK, Terry [US/US]; (US).
SHAH, Vinay [US/US]; (US).
RIPOSAN, Alex [RO/US]; (US)
Inventors: BLUCK, Terry; (US).
SHAH, Vinay; (US).
RIPOSAN, Alex; (US)
Agent: BACH, Joseph; Nixon Peabody LLP P.O. Box 60610 Palo Alto, CA 94306 (US)
Priority Data:
61/639,052 26.04.2012 US
Title (EN) SYSTEM ARCHITECTURE FOR VACUUM PROCESSING
(FR) ARCHITECTURE DE SYSTÈME DE TRAITEMENT SOUS VIDE
Abstract: front page image
(EN)A system for processing substrates in plasma chambers, such that all substrates transport and loading/unloading operations are performed in atmospheric environment, but processing is performed in vacuum environment. The substrates are transported throughout the system on carriers. The system's chambers are arranged linearly, such that carriers move from one chamber directly to the next. A conveyor, placed above or below the system's chambers, returns the carriers to the system's entry area after processing is completed. Loading and unloading of substrates may be performed at one side of the system, or loading can be done at the entry side and unloading at the exit side.
(FR)La présente invention concerne un système de traitement de substrats dans des chambres plasmatiques, de sorte que toutes les opérations de transport et de chargement/déchargement de substrats sont effectuées dans un environnement atmosphérique, mais que le traitement est effectué dans un environnement sous vide. Selon l'invention, les substrats sont transportés dans tout le système sur des supports. Les chambres du système sont agencées de façon linéaire, de sorte que les supports peuvent passer directement d'une chambre à la suivante. Un convoyeur, placé au-dessus ou au-dessous des chambres du système, ramène les supports vers la zone d'entrée du système à la fin du traitement. Le chargement et le déchargement de substrats peuvent être effectués d'un côté du système, ou bien le chargement peut être effectué du côté entrée et le déchargement du côté sortie.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)