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1. (WO2013163107) ELECTROCHROMIC WINDOW FABRICATION METHODS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/163107    International Application No.:    PCT/US2013/037644
Publication Date: 31.10.2013 International Filing Date: 22.04.2013
IPC:
G02F 1/15 (2006.01), E06B 9/24 (2006.01)
Applicants: VIEW, INC. [US/US]; 195 South Milpitas Boulevard Milpitas, California 95035 (US) (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
PARKER, Ronald M. [US/US]; (US) (US only).
ROZBICKI, Robert T. [US/US]; (US) (US only).
BHATNAGAR, Yashraj [US/US]; (US) (US only).
DIXIT, Abhishek Anant [IN/US]; (US) (US only).
PRADHAN, Anshu A [IN/US]; (US) (US only)
Inventors: PARKER, Ronald M.; (US).
ROZBICKI, Robert T.; (US).
BHATNAGAR, Yashraj; (US).
DIXIT, Abhishek Anant; (US).
PRADHAN, Anshu A; (US)
Agent: MARTINEZ-LEMKE, Sheila; Weaver Austin Villeneuve & Sampson LLP P.O. Box 70250 Oakland, California 94612-0250 (US)
Priority Data:
13/456,056 25.04.2012 US
Title (EN) ELECTROCHROMIC WINDOW FABRICATION METHODS
(FR) PROCÉDÉS DE FABRICATION DE FENÊTRE ÉLECTROCHROMIQUE
Abstract: front page image
(EN)Methods of manufacturing electrochromic windows are described. Insulated glass units (IGU's) are protected, e.g. during handling and shipping, by a protective bumper. The bumper can be custom made using IGU dimension data received from the IGU fabrication tool. The bumper may be made of environmentally friendly materials. Laser isolation configurations and related methods of patterning and/or configuring an electrochromic device on a substrate are described. Edge deletion is used to ensure a good seal between spacer and glass in an IGU and thus better protection of an electrochromic device sealed in the IGU. Configurations for protecting the electrochromic device edge in the primary seal and maximizing viewable area in an electrochromic pane of an IGU are also described.
(FR)La présente invention concerne des procédés de fabrication de fenêtres électrochromiques. Des unités de verre isolé sont protégées, par exemple durant le maniement et l'expédition, par un butoir de protection. Le butoir peut être fait sur mesure en se servant de données dimensionnelles des unités de verre isolé reçues à partir de l'outil de fabrication des unités de verre isolé. Le butoir peut être fait à l'aide de matériaux écologiques. L'invention concerne également des configurations d'isolation par laser et des procédés connexes de formation de motifs et/ou de configuration d'un dispositif électrochromique sur un substrat. On utilise une suppression de bordure pour assurer un bon scellement entre une cale d'espacement et le verre dans une unité de verre isolé, et ainsi assurer une meilleure protection d'un dispositif électrochromique scellé dans l'unité de verre isolé. L'invention concerne en outre des configurations permettant de protéger le bord du dispositif électrochromique dans le scellement primaire et de maximaliser la zone visible dans une vitre électrochromique d'une unité de verre isolé.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)