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1. (WO2013162825) PLASMA PROCESSING USING RF RETURN PATH VARIABLE IMPEDANCE CONTROLLER WITH TWO-DIMENSIONAL TUNING SPACE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/162825    International Application No.:    PCT/US2013/034568
Publication Date: 31.10.2013 International Filing Date: 29.03.2013
IPC:
H05H 1/46 (2006.01), H03H 7/40 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US)
Inventors: MISRA, Nipun; (US).
RAMASWAMY, Kartik; (US).
YANG, Yang; (US).
BUCHBERGER, Douglas, A.; (US).
CARDUCCI, James, D.; (US).
WONG, Lawrence; (US).
NEVIL, Shane, C.; (US).
RAUF, Shahid; (US).
COLLINS, Kenneth, S.; (US)
Agent: WALLACE, Robert, M.; Law Offices Of Robert M. Wallace 2112 Eastman Avenue, Suite 102 Ventura, CA 93003 (US)
Priority Data:
61/637,558 24.04.2012 US
13/842,287 15.03.2013 US
Title (EN) PLASMA PROCESSING USING RF RETURN PATH VARIABLE IMPEDANCE CONTROLLER WITH TWO-DIMENSIONAL TUNING SPACE
(FR) TRAITEMENT PAR PLASMA UTILISANT UNE COMMANDE À IMPÉDANCE VARIABLE D'UN TRAJET DE RETOUR RF AVEC ESPACE D'ACCORD BIDIMENSIONNEL
Abstract: front page image
(EN)In a plasma reactor having a driven electrode and a counter electrode, an impedance controller connected between the counter- electrode and ground includes both series sand parallel variable impedance elements that facilitate two-dimensional movement of a ground path input impedance in a complex impedance space to control spatial distribution of a plasma process parameter.
(FR)L'invention concerne un réacteur à plasma doté d'une électrode pilotée et d'une contre-électrode, caractérisé en ce qu'une commande d'impédance branchée entre la contre-électrode et la terre comprend à la fois des éléments à impédance variable en série et en parallèle qui facilitent un mouvement bidimensionnel d'une impédance d'entrée de trajet de retour à la terre dans un espace d'impédance complexe afin de commander la répartition spatiale d'un paramètre de processus à plasma.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)