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Pub. No.:    WO/2013/161912    International Application No.:    PCT/JP2013/062139
Publication Date: 31.10.2013 International Filing Date: 24.04.2013
G01N 21/956 (2006.01), G01B 11/30 (2006.01)
Applicants: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP)
Inventors: HONDA Toshifumi; (JP).
URANO Yuta; (JP).
JINGU Takahiro; (JP).
Agent: POLAIRE I.P.C.; 7-1, Hatchobori 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040032 (JP)
Priority Data:
2012-102819 27.04.2012 JP
(JA) 欠陥検査装置および欠陥検査方法
Abstract: front page image
(EN)To detect an infinitesimal defect, highly precisely measure the dimensions of the detected defect, non-destructively inspect a sample, allow obtaining a substantially constant inspection result relating to the quantity, locations, dimensions, and types of the detected defects, and allow inspecting multiple samples within a constant time, a defect inspection device is configured to comprise: a projection means for projecting an illumination light in a linear region in a surface of a sample; a detection means for detecting a reflected/scattered light from the linear region whereupon the light is projected upon the sample by the projection means; and a signal processing means for processing a signal which is obtained by detecting the reflected/scattered light and detecting a defect upon the sample. The detection means further comprises: an optical assembly which diffuses the reflected/scattered light from the sample in one direction and forms an image in a direction which is orthogonal to the one direction; and a detection assembly having an array sensor in which detection pixels are positioned two-dimensionally, which detects the reflected/scattered light which is diffused in the one direction and image formed in the direction which is orthogonal to the one direction by the optical assembly, adds output signals of each of the detection pixels which are aligned in the direction in which the reflected/scattered light is diffused, and outputs same.
(FR)Selon la présente invention, pour détecter un défaut infinitésimal, pour mesurer de manière extrêmement précise les dimensions du défaut détecté, pour inspecter de manière non destructrice un échantillon, pour permettre l'obtention d'un résultat d'inspection sensiblement constant concernant la quantité, les positions, les dimensions et les types des défauts détectés et pour permettre l'inspection de multiples échantillons en un temps constant, un dispositif d'inspection de défaut est configuré afin de comporter : un moyen de projection pour projeter une lumière d'éclairage dans une région linéaire dans une surface d'un échantillon ; un moyen de détection pour détecter une lumière réfléchie/diffusée par la région linéaire sur laquelle la lumière est projetée sur l'échantillon par le moyen de projection ; un moyen de traitement de signal pour traiter un signal qui est obtenu par détection de la lumière réfléchie/diffusée et pour détecter un défaut sur l'échantillon. Le moyen de détection comporte en outre : un ensemble optique qui diffuse la lumière réfléchie/diffusée provenant de l'échantillon dans une direction et forme une image dans une direction qui est orthogonale à la première direction ; un ensemble de détection ayant un capteur en réseau dans lequel des pixels de détection sont positionnés de manière bidimensionnelle, qui détecte la lumière réfléchie/diffusée qui est diffusée dans la première direction et une image formée dans la direction qui est orthogonale à la première direction par l'ensemble optique, qui ajoute les signaux de sortie de chacun des pixels de détection qui sont alignés dans la direction dans laquelle la lumière réfléchie/diffusée est diffusée, et émet celle-ci.
(JA) 微小な欠陥を検出し、検出した欠陥の寸法を高精度に計測し、試料を非破壊で検査し、検出欠陥の個数、位置、寸法、欠陥種に関して実質的に一定の検査結果が得られるようにし、一定時間内に多数の試料を検査できるようにするために、欠陥検査装置を、試料の表面に線状の領域に照明光を照射する照射手段と、照射手段により試料上の光が照射された線状の領域から反射・散乱した光を検出する検出手段と、反射・散乱した光を検出して得た信号を処理して試料上の欠陥を検出する信号処理手段とを備えて構成し、検出手段は、試料から反射・散乱した光を一方向に拡散させて一方向と直角な方向に結像させる光学系と、検出画素を二次元に配置したアレイセンサを有して光学系により一方向に拡散させ一方向と直角な方向に結像させた反射・散乱光を検出して反射・散乱光を拡散させた方向に並ぶ各検出画素の出力信号を加算して出力する検出系とを備えた。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)