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1. (WO2013161735) COMPOSITION FOR PRODUCING COMPOUND OXIDE THIN FILM, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM USING COMPOSITION, AND COMPOUND OXIDE THIN FILM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/161735    International Application No.:    PCT/JP2013/061729
Publication Date: 31.10.2013 International Filing Date: 22.04.2013
Chapter 2 Demand Filed:    20.02.2014    
IPC:
C01G 19/00 (2006.01), C01G 25/00 (2006.01)
Applicants: TOSOH FINECHEM CORPORATION [JP/JP]; 4555 banchi, Kaisei-cho, Shunan-city, Yamaguchi 7460006 (JP)
Inventors: TAKEMOTO, Yujin; (JP).
HAGA, Kenichi; (JP).
INABA, Koichiro; (JP).
TOYOTA, Kouji; (JP).
TOKUDOME, Kouichi; (JP).
YOSHINO, Kenji; (JP).
OSHIMA, Minoru; (JP)
Agent: SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Priority Data:
2012-100168 25.04.2012 JP
2012-100174 25.04.2012 JP
Title (EN) COMPOSITION FOR PRODUCING COMPOUND OXIDE THIN FILM, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM USING COMPOSITION, AND COMPOUND OXIDE THIN FILM
(FR) COMPOSITION POUR PRODUIRE UNE COUCHE MINCE D'OXYDE COMPOSÉ, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE COUCHE MINCE À L'AIDE DE LA COMPOSITION ET COUCHE MINCE D'OXYDE COMPOSÉ
(JA) 複合酸化物薄膜製造用組成物及びこの組成物を用いた薄膜の製造方法、並びに複合酸化物薄膜
Abstract: front page image
(EN)Provided are a composition with which a compound oxide thin film that can be used for an oxide semiconductor film, and the like can be formed by spray pyrolysis, and the like, and a method for forming a compound oxide thin film using the composition. The present invention relates to a composition for producing a compound oxide comprising at least one compound selected from the group consisting of compounds containing elemental zinc and compounds containing group 3B elements, the product of partial hydrolysis by water of the above-mentioned compound, or the above-mentioned compound and the above-mentioned partial hydrolysis product, as well as at least one compound selected from the group consisting of compounds containing group 4A elements and compounds containing group 4B elements, the product of partial hydrolysis by water of the above-mentioned compound, or the above-mentioned compound and the above-mentioned partial hydrolysis product. The present invention relates to a method for producing a compound oxide thin film having an average permeability of 80% or more by visible light rays, which comprises performing at least once a step for coating a substrate surface with the composition under an inert gas atmosphere and then heating the resulting coating film.
(FR)La présente invention concerne une composition avec laquelle une couche mince d'oxyde composé qui peut être utilisée pour un film semi-conducteur d'oxyde et similaire peut être formée par pyrolyse par projection et similaire, et un procédé de formation d'une couche mince d'oxyde composé à l'aide de la composition. La présente invention concerne une composition permettant de produire un oxyde composé comprenant au moins un composé choisi dans le groupe constitué de composés contenant du zinc élémentaire et des composés contenant des éléments du groupe 3B, le produit de l'hydrolyse partielle par l'eau du composé susmentionné, ou le composé susmentionné et le produit d'hydrolyse partielle susmentionné, ainsi qu'au moins un composé choisi dans le groupe constitué de composés contenant des éléments du groupe 4A et des composés contenant des éléments du groupe 4B, le produit de l'hydrolyse partielle par l'eau du composé susmentionné, ou le composé susmentionné et le produit d'hydrolyse partielle susmentionné. La présente invention concerne un procédé de production d'une couche mince d'oxyde composé ayant une perméabilité moyenne de 80 % ou plus par des rayonnements de lumière visible, qui consiste à effectuer au moins une étape de revêtement d'une surface de substrat avec la composition dans une atmosphère de gaz inerte puis à chauffer le film de revêtement obtenu.
(JA)本発明は、酸化物半導膜等に適用可能な複合酸化物薄膜を、スプレー熱分解法などで成膜することができる組成物及びこの組成物を用いて複合酸化物薄膜を成膜する方法を提供する。本発明は、亜鉛元素を含む化合物および3B族元素を含む化合物から成る群から選ばれる少なくとも1種の化合物、前記化合物の水による部分加水分解物または前記化合物および前記部分加水分解物、並びに4A族元素を含む化合物および4B族元素を含む化合物から成る群から選ばれる少なくとも1種の化合物、前記化合物の水による部分加水分解物または前記化合物および前記部分加水分解物を含有する複合酸化物製造用組成物に関する。本発明は、前記組成物を、不活性ガス雰囲気下、基板表面に塗布し、次いで、得られた塗布膜を加熱する操作を少なくとも1回行うことを含む、可視光線に対して80%以上の平均透過率を有する複合酸化物薄膜の製造方法に関する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)