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1. (WO2013161519) SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND METHOD FOR MAINTAINING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/161519    International Application No.:    PCT/JP2013/059981
Publication Date: 31.10.2013 International Filing Date: 01.04.2013
IPC:
H01L 21/02 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1 Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP)
Inventors: SENZAKI Shigeru; (JP).
SAITO Michishige; (JP).
SATOH Daiki; (JP).
HORIUCHI Ken; (JP).
ANDO Koji; (JP).
KOIWA Shingo; (JP)
Agent: HASEGAWA Yoshiki; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Marunouchi MY PLAZA (Meiji Yasuda Life Bldg.) 9th fl., 1-1, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Priority Data:
2012-098791 24.04.2012 JP
61/640766 01.05.2012 US
Title (EN) SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND METHOD FOR MAINTAINING SAME
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET SON PROCÉDÉ DE MAINTIEN
(JA) 基板処理装置及びそのメンテナンス方法
Abstract: front page image
(EN)Provided is a substrate processing device in which the arrangement space for the substrate processing device including the working space can be effectively utilized in an instance in which a plurality of processing chambers are provided. The substrate processing device is provided with: a first processing chamber; a second processing chamber; a transportation chamber; a frame structure; and an elevating part. Each of the first processing chamber and the second processing chamber has a main body part and a lid part, and demarcates a processing space in the interior. The transportation chamber is connected to the first processing chamber and the second processing chamber and houses a transportation mechanism for transporting the substrate. The frame structure has a pair of column parts and a beam part supported by the top of each of the column parts. The elevating part is attached to the beam part so as to be capable of moving in the horizontal direction, and moves the lid part in the vertical direction. The beam part extends across the regions above the first processing chamber, the second processing chamber, and the transportation chamber.
(FR)La présente invention a trait à un dispositif de traitement de substrat permettant d'utiliser de façon efficace l'espace d'agencement destiné au dispositif de traitement de substrat incluant l'espace de travail lorsqu'une pluralité de chambres de traitement sont prévues. Le dispositif de traitement de substrat est équipé : d'une première chambre de traitement ; d'une seconde chambre de traitement ; d'une chambre de transport ; d'une structure de cadre ; et d'une partie élévatrice. Chacune de la première chambre de traitement et de la seconde chambre de traitement est dotée d'une partie de corps principal et d'une partie de couvercle, et délimite un espace de traitement à l'intérieur. La chambre de transport est connectée à la première chambre de traitement et à la seconde chambre de traitement et loge un mécanisme de transport permettant de transporter le substrat. La structure de cadre est pourvue d'une paire de parties de colonne et une partie de poutre qui est supportée par la partie supérieure de chacune des parties de colonne. La partie élévatrice est fixée à la partie de poutre de manière à être en mesure de se déplacer dans la direction horizontale et déplace la partie de couvercle dans la direction verticale. La partie de poutre s'étend d'un bout à l'autre des régions qui se trouvent au-dessus de la première chambre de traitement, de la seconde chambre de traitement et de la chambre de transport.
(JA) 複数の処理チャンバを備える場合において、作業スペースを含めた基板処理装置の配置スペースを有効利用することができる基板処理装置を提供する。基板処理装置は、第1処理チャンバ、第2処理チャンバ、搬送チャンバ、フレーム構造体及び昇降部を備える。第1処理チャンバおよび第2処理チャンバは、本体部及び蓋部を有し、処理空間を内部に画成する。搬送チャンバは、第1処理チャンバ及び第2処理チャンバと接続され、基板を搬送するための搬送機構が収容されている。フレーム構造体は、一対の支柱部、及び一対の支柱部の頂部に支持された梁部を有する。昇降部は、梁部に水平方向に移動可能に取り付けられ、蓋部を垂直方向へ移動させる。梁部は、第1処理チャンバ、第2処理チャンバ及び搬送チャンバの上方を横切って延在する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)