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1. WO2013161187 - GAS SEPARATION AND SUPPLY DEVICE FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS

Publication Number WO/2013/161187
Publication Date 31.10.2013
International Application No. PCT/JP2013/002257
International Filing Date 01.04.2013
IPC
G05D 7/06 2006.01
GPHYSICS
05CONTROLLING; REGULATING
DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
7Control of flow
06characterised by the use of electric means
CPC
G05D 7/06
GPHYSICS
05CONTROLLING; REGULATING
DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
7Control of flow
06characterised by the use of electric means
G05D 7/0641
GPHYSICS
05CONTROLLING; REGULATING
DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
7Control of flow
06characterised by the use of electric means
0617specially adapted for fluid materials
0629characterised by the type of regulator means
0635by action on throttling means
0641using a plurality of throttling means
G05D 7/0664
GPHYSICS
05CONTROLLING; REGULATING
DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
7Control of flow
06characterised by the use of electric means
0617specially adapted for fluid materials
0629characterised by the type of regulator means
0635by action on throttling means
0641using a plurality of throttling means
0664the plurality of throttling means being arranged for the control of a plurality of diverging flows from a single flow
H01L 21/02
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
Y10T 137/87772
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
137Fluid handling
8593Systems
877With flow control means for branched passages
87708With common valve operator
87772With electrical actuation
Applicants
  • 株式会社フジキン FUJIKIN INCORPORATED [JP]/[JP]
Inventors
  • 西野 功二 NISHINO, Kouji
  • 土肥 亮介 DOHI, Ryousuke
  • 平田 薫 HIRATA, Kaoru
  • 杉田 勝幸 SUGITA, Katsuyuki
  • 池田 信一 IKEDA, Nobukazu
Agents
  • 杉本 丈夫 SUGIMOTO, Takeo
Priority Data
2012-10385727.04.2012JP
Publication Language Japanese (JA)
Filing Language Japanese (JA)
Designated States
Title
(EN) GAS SEPARATION AND SUPPLY DEVICE FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS
(FR) DISPOSITIF DE SÉPARATION DE GAZ ET D'ALIMENTATION EN GAZ POUR UN APPAREIL DE FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEURS
(JA) 半導体製造装置のガス分流供給装置
Abstract
(EN)
The present invention comprises: a control valve (3) that constitutes a pressure-type flow rate control unit (1a) connected to a process gas inlet (11); a main gas supply pipe (8) that communicates with a downstream side of the control valve (3); a plurality of branch pipes (9a and 9n) that are connected in parallel to a downstream side of the main gas supply pipe (8); branch pipe opening and closing valves (10a and 10n) that are interposed in the respective branch pipes (9a and 9n); orifices (6a and 6n) that are disposed on downstream sides of the branch pipe opening and closing valves (10a and 10n); a temperature sensor (4) that is disposed in the vicinity of a process gas passage between the control valve (3) and the orifices (6a and 6n); a pressure sensor (5) that is disposed in the process gas passage between the control valve (3) and the orifices (6a and 6n); separated gas outlets (11a and 11n) that are disposed on outlet sides of the orifices (6a and 6n); and an arithmetic operation control unit (7) to which a pressure signal from the pressure sensor (5) and a temperature signal from the temperature sensor (4) are input, which calculates the total flow rate (Q) of a process gas flowing through the orifices (6a and 6n), and which is constituted by a pressure-type flow rate arithmetic operation control unit (7a) that outputs a control signal (Pd) opening and closing the control valve (3) in a direction in which the difference between a calculated flow rate value and a set flow rate value decreases at a valve operating unit (3a). Flow rate control is performed by the pressure-type flow rate control unit (1a).
(FR)
La présente invention concerne un dispositif de séparation de gaz et d'alimentation en gaz pour un appareil de fabrication de semi-conducteurs, comprenant : une soupape de régulation (3) qui constitue une unité de régulation de débit d'écoulement de type à pression (1a) communiquant avec une entrée de gaz de traitement (11) ; une conduite principale d'alimentation en gaz (8) qui communique avec un côté aval de la soupape de régulation (3) ; plusieurs conduites de dérivation (9a et 9n) qui sont raccordées en parallèle à un côté aval de la conduite principale d'alimentation en gaz (8) ; des soupapes d'ouverture et de fermeture (10a et 10n) de conduites de dérivation qui sont interposées dans les conduites de dérivation respectives (9a et 9n) ; des orifices (6a et 6n) qui sont disposés sur les côtés aval des soupapes d'ouverture et de fermeture (10a et 10n) de conduites de dérivation ; un capteur de température (4) qui est disposé à proximité d'un passage de gaz de traitement entre la soupape de régulation (3) et les orifices (6a et 6n) ; un capteur de pression (5) qui est disposé dans le passage de gaz de traitement entre la soupape de régulation (3) et les orifices (6a et 6n) ; des sorties de gaz séparé (11a et 11n) qui sont disposées des côtés sortie des orifices (6a et 6n) ; et un module de commande d'opération arithmétique (7) auquel un signal de pression provenant du capteur de pression (5) et un signal de température provenant du capteur de température (4) sont appliqués, qui calcule le débit d'écoulement total (Q) d'un gaz de traitement circulant à travers les orifices (6a et 6n), et qui est constitué d'une unité de commande d'opération arithmétique de débit de d'écoulement de type à pression (7a) qui délivre un signal de commande (Pd) ouvrant et fermant la soupape de régulation (3) dans un sens dans lequel la différence entre une valeur de débit d'écoulement calculée et une valeur de débit d'écoulement déterminée diminue au niveau d'une unité de commande de soupape (3a). La commande de débit d'écoulement est effectuée par l'unité de commande de débit d'écoulement de type à pression (1a).
(JA)
 プロセスガス入口(11)に接続した圧力式流量制御部(1a)を構成するコントロール弁(3)と,コントロール弁(3)の下流側に連通するガス供給主管(8)と,ガス供給主管(8)の下流側に並列状に接続した複数の分岐管路(9a、9n)と,各分岐管路(9a、9n)に介設した分岐管路開閉弁(10a、10n)と,分岐管路開閉弁(10a、10n)の下流側に設けたオリフィス(6a、6n)と,前記コントロール弁(3)とオリフィス(6a、6n)の間のプロセスガス通路近傍に設けた温度センサ(4)と,前記コントロール弁(3)とオリフィス(6a、6n)の間のプロセスガス通路に設けた圧力センサ(5)と,前記オリフィス(6a、6n)の出口側に設けた分流ガス出口(11a、11n)と,前記圧力センサ(5)からの圧力信号及び温度センサ(4)からの温度信号が入力され、前記オリフィス(6a、6n)を流通するプロセスガスの総流量(Q)を演算すると共に、演算した流量値と設定流量値との差が減少する方向に前記コントロール弁(3)を開閉作動させる制御信号(Pd)を弁駆動部(3a)へ出力する圧力式流量演算制御部(7a)からなる演算制御部(7)と,を具備し、圧力式流量制御部(1a)により流量制御を行う。
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