WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2013160082) LITHOGRAPHIC APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/160082    International Application No.:    PCT/EP2013/057155
Publication Date: 31.10.2013 International Filing Date: 05.04.2013
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventors: BUTLER, Hans; (NL)
Agent: MAAS, Abraham; PO Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Priority Data:
61/639,545 27.04.2012 US
Title (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Abstract: front page image
(EN)A lithographic apparatus includes a patterning device support constructed to support a patterning device (5), the patterning device being capable of imparting a radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam, the patterning device support including a moveable structure (3) movably arranged with respect to an object, a patterning device holder (4) movably arranged with respect to the movable structure and configured to hold the patterning device, an actuator (8) configured to move the movable structure (3) with respect to the object, and an ultra short stroke actuator (9) configured to move the patterning device holder (4) with respect to the movable structure (3); a substrate support (WT) constructed to hold a substrate (W); and a projection system (PS) configured to project the patterned radiation beam onto a target portion (C) of the substrate, a position measurement system (IF) for measuring a substrate positional error (eWS) which is a difference between a desired position (SPWS) of the substrate relative to a reference object and an actual position of the substrate relative to the reference object; and a controller (100, 200) configured to move the actuator (8) and the ultra short stroke actuator (9) at least partly on the basis of the substrate positional error (eWS).
(FR)La présente invention se rapporte à un appareil lithographique qui comprend un support de dispositif de création de motifs construit pour supporter un dispositif de création de motifs (5), le dispositif de création de motifs pouvant transmettre un faisceau de rayonnement ayant un motif dans sa section transversale afin de former un faisceau de rayonnement à motif, le support de dispositif de création de motifs comprenant une structure mobile (3) agencée de manière mobile par rapport à un objet, un système de maintien (4) de dispositif de création de motifs agencé de manière mobile par rapport à la structure mobile et configuré pour maintenir le dispositif de création de motifs, un actionneur (8) configuré pour déplacer la structure mobile par rapport à l'objet, et un actionneur à course ultra-courte (9) configuré pour déplacer le système de maintien (4) de dispositif de création de motifs par rapport à la structure mobile (3); un support de substrat (WT) construit pour supporter un substrat (W); et un système de projection (PS) configuré pour projeter le faisceau de rayonnement à motif sur une partie cible (C) du substrat, un système de mesure de position (IF) destiné à mesurer une erreur de position de substrat (eWS) qui est une différence entre une position souhaitée (SPWS) du substrat par rapport à un objet de référence et la position réelle du substrat par rapport à l'objet de référence; ainsi qu'un dispositif de commande (100, 200) configuré pour déplacer l'actionneur (8) et l'actionneur à course ultra-courte (9) au moins partiellement sur la base de l'erreur de position de substrat (eWS).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)