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1. (WO2013160021) FLEXIBLE CONDUIT FOR FLUID, LITHOGRAPHIC APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING A DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/160021    International Application No.:    PCT/EP2013/055646
Publication Date: 31.10.2013 International Filing Date: 19.03.2013
IPC:
B32B 15/08 (2006.01), B32B 15/20 (2006.01), B32B 1/08 (2006.01), F16L 11/08 (2006.01), F16L 11/16 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/02 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventors: SCHASFOORT, Gerard, Frans, Jozef; (NL)
Agent: SLENDERS, Peter; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Priority Data:
61/636,995 23.04.2012 US
Title (EN) FLEXIBLE CONDUIT FOR FLUID, LITHOGRAPHIC APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING A DEVICE
(FR) CONDUITE FLEXIBLE POUR UN FLUIDE, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF
Abstract: front page image
(EN)A lithographic apparatus operating at EUV wavelengths comprises various components and subsystems for transferring a pattern from a patterning device (MA) to a substrate (W) by EUV lithography. Such components are housed within vacuum vessels (220, 222, 224 etc) so that EUV radiation is not impeded by the atmosphere. Conduits (264, 266, 268 etc) within the vacuum vessels circulate water or other fluid for cooling purposes. Some of said conduits are flexible conduits. A novel form of flexible conduit (328) comprises an inner layer (330) of polymer, a barrier layer (332) and an outer layer (334) with optional adhesive layers (338, 340) between. The inner and outer layers comprise polymer with low outgassing performance (e.g., PTFE), while the barrier layer prevents permeation of water into the vacuum environment. The barrier layer may be metal, for example Aluminum, and may be less than 100 µm or less than 10µm in thickness.
(FR)Un appareil lithographique fonctionnant à des longueurs d'ondes EUV comprend divers éléments et sous-systèmes permettant de transférer un motif d'un dispositif de formation de motifs (MA) vers un substrat (W) par lithographie EUV. Lesdits éléments sont logés à l'intérieur de récipients sous vide (220, 222, 224 etc.) de sorte que le rayonnement EUV ne soit pas entravé par l'atmosphère. Des conduites (264, 266, 268 etc.) à l'intérieur des récipients sous vide permettent la circulation d'eau ou d'autres fluides à des fins de refroidissement. Certaines desdites conduites sont des conduites flexibles. Une nouvelle forme de conduite flexible (328) comprend une couche interne (330) de polymère, une couche barrière (332) et une couche externe (334) avec des couches adhésives facultatives (338, 340) entre elles. Les couches interne et externe comprennent un polymère présentant une faible performance de dégazage (PTFE par exemple) alors que la couche barrière empêche l'infiltration d'eau dans l'environnement sous vide. La couche barrière peut être composée de métal, par exemple d'aluminium, et son épaisseur peut être inférieure à 100 µm ou 10 µm.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)