WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2013160016) LITHOGRAPHY APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/160016    International Application No.:    PCT/EP2013/055537
Publication Date: 31.10.2013 International Filing Date: 18.03.2013
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventors: BUTLER, Hans; (NL).
VAN DER WIJST, Marc; (NL)
Agent: MAAS, Abraham; ASML Netherlands BV P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Priority Data:
61/638,889 26.04.2012 US
Title (EN) LITHOGRAPHY APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'APPAREIL ET DE DISPOSITIF DE LITHOGRAPHIE
Abstract: front page image
(EN)A lithography apparatus and device manufacturing methods are disclosed. A lithography apparatus includes a support stage (16), and a measurement system (12-14) including a sensor part (13) and a reference part (12, 14), the measurement system being configured to determine the position and/or orientation of the support stage (16), or of a component mounted on the support stage, relative to a reference frame (6, 8, 10) by using the sensor part (13) to interact with the reference part (12, 14), wherein: the reference frame (6, 8, 10) comprises N sub-frames (6, 8) coupled together so as to behave predominantly as a single rigid body with respect to vibrations below a first reference frequency and predominantly as an N-body system with respect to vibrations above a second reference frequency, where N is an integer greater than 1.
(FR)La présente invention concerne des procédés de fabrication d'appareil et de dispositif de lithographie. Selon l'invention, un appareil de lithographie comprend une platine de support (16) et un système de mesure (12 à 14) comprenant une partie (13) de capteur et une partie (12, 14) de référence, le système de mesure étant conçu pour déterminer la position et/ou l'orientation de la platine de support (16), ou d'un composant monté sur la platine de support, par rapport à un bâti de référence (6, 8, 10) par utilisation de la partie (13) de capteur pour interagir avec la partie (12, 14) de référence. Selon l'invention, le bâti de référence (6, 8, 10) comprend N sous-bâtis (6, 8) raccordés les uns aux autres de façon à se comporter d'une façon prédominante comme un seul corps rigide par rapport aux vibrations en deçà d'une première fréquence de référence et de façon prédominante comme un système à N corps par rapport aux vibrations au-delà d'une seconde fréquence de référence, où N est un nombre entier supérieur à 1.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)