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1. (WO2013159928) METHOD FOR REPAIRING OPTICAL ELEMENTS, AND OPTICAL ELEMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/159928    International Application No.:    PCT/EP2013/001244
Publication Date: 31.10.2013 International Filing Date: 25.04.2013
IPC:
G21K 1/06 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH [DE/DE]; Carl-Zeiss-Strasse 22 73447 Oberkochen (DE)
Inventors: EHRLER, Oli; (DE).
MEIER, Uwe; (DE).
UHL, Alexander; (DE).
KIEREY, Holger; (DE)
Agent: CARL ZEISS AG -; Patentabteilung c/o Carl Zeiss AG Carl-Zeiss-Strasse 22 73447 Oberkochen (DE)
Priority Data:
10 2012 207 141.5 27.04.2012 DE
61/639,370 27.04.2012 US
Title (EN) METHOD FOR REPAIRING OPTICAL ELEMENTS, AND OPTICAL ELEMENT
(FR) PROCÉDÉ DE RÉPARATION D'ÉLÉMENTS OPTIQUES ET ÉLÉMENT OPTIQUE
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to a method for repairing a collector for an EUV projection exposure apparatus having a first coating 24 and a second coating 21, wherein the first coating 24 is arranged between the second coating 21 and a surface of the collector, comprising the following method steps: - ' completely or partly removing the first coating (24) by treatment with a first chemical solution (30); applying a new first coating (24'). According to the invention, the first chemical solution 30 used is an agent which has a first etching rate in combination with the material 22, 23 of the first coating 24 and a second etching rate in combination with the material of the second coating 21, wherein the first etching rate is greater than the second etching rate at least by a factor of 5. The invention furthermore relates to a collector for an EUV projection exposure apparatus having a first coating 24, which comprises a metal, a metal oxide, a semiconductor oxide, a semiconductor nitride or a combination thereof, and having a second coating 21, which comprises a plurality of alternately deposited plies of molybdenum and silicon, wherein the first coating 24 is arranged between the second coating 21 and a surface of the collector.
(FR)La présente invention concerne un procédé de réparation d'un collecteur pour un appareil d'exposition par projection en ultraviolet extrême (EUV) ayant un premier revêtement 24 et un second revêtement 21, le premier revêtement 24 étant agencé entre le second revêtement 21 et une surface du collecteur, comprenant les étapes de procédé suivantes : - retrait de manière complète ou partielle du premier revêtement (24) par traitement avec une première solution chimique (30) ; application d'un nouveau premier revêtement (24'). Selon la présente invention, la première solution chimique 30 utilisée est un agent qui a une première vitesse de gravure conjointement avec la matière 22, 23 du premier revêtement 24 et une seconde vitesse de gravure conjointement avec la matière du second revêtement 21, la première vitesse de gravure étant supérieure à la seconde vitesse de gravure au moins par un facteur de 5. La présente invention concerne de plus un collecteur pour un appareil d'exposition par projection EUV ayant un premier revêtement 24, qui comprend un métal, un oxyde métallique, un oxyde de semi-conducteur, un nitrure de semi-conducteur ou une combinaison de ceux-ci, et ayant un second revêtement 21, qui comprend une pluralité d'épaisseurs déposées en alternance de molybdène et de silicium, le premier revêtement 24 étant agencé entre le second revêtement 21 et une surface du collecteur.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)