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1. (WO2013159645) METHOD FOR MEASURING DISPLACEMENT OF LARGE-STROKE MOVING PLATFORM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2013/159645 International Application No.: PCT/CN2013/073993
Publication Date: 31.10.2013 International Filing Date: 10.04.2013
IPC:
G01B 11/02 (2006.01)
Applicants: TSINGHUA UNIVERSITY[CN/CN]; Post Box 100084 Branch 82 Tsinghua Univeristy Patent Office Haidian District, Beijing 100084, CN
Inventors: ZHANG, Ming; CN
ZHU, Yu; CN
LIU, Hao; CN
JIANG, Yi; CN
LIU, Zhao; CN
YANG, Kaiming; CN
HU, Jinchun; CN
XU, Dengfeng; CN
MU, Haihua; CN
YIN, Wensheng; CN
Agent: BEIJING GRANDER IP LAW FIRM; Room 18A6, East wing, Hanwei plaza No.7 Guanghua Road, Chaoyang District Beijing 100004, CN
Priority Data:
201210121975.023.04.2012CN
Title (EN) METHOD FOR MEASURING DISPLACEMENT OF LARGE-STROKE MOVING PLATFORM
(FR) PROCÉDÉ PERMETTANT DE MESURER LE DÉPLACEMENT D'UNE PLATE-FORME SE DÉPLAÇANT SUR UNE GRANDE AMPLITUDE
(ZH) 一种大行程运动台位移测量方法
Abstract: front page image
(EN) A method for measuring displacement of a large-stroke moving platform. The method comprises: arranging multiple beams of first measuring light (204) parallel to one another and generated by an optical path distribution device (201) and a position sensitive detector (301) array in a certain manner, so as to ensure that at least one beam of first measuring light (204) is detected by the position sensitive detector (301) array when a moving platform (101) is at any position of a moving area; a detection head (401) array capable of determining whether a light beam is shaded being used for auxiliary measurement of a position of the moving platform (101); and determining a position of the moving platform (101) that corresponds to the first measuring light (204) measured by the position sensitive detector (301) array, so as to calculate displacement of the moving platform (101). The method effectively enlarges a measurement range of the position sensitive detector (301) array, and implements measurement of long stroke displacement of the moving platform (101).
(FR) La présente invention concerne un procédé permettant de mesurer le déplacement d'une plate-forme se déplaçant sur une grande amplitude. Le procédé comprend les étapes consistant : à agencer plusieurs faisceaux d'une première lumière de mesure (204) parallèles les uns aux autres et générés par un dispositif de distribution de chemin optique (201) et un réseau de détecteurs sensibles à la position (301) d'une certaine manière, de façon à garantir qu'au moins un faisceau de la première lumière de mesure (204) soit détecté par le réseau de détecteurs sensibles à la position (301) lorsqu'une plate-forme mobile (101) se trouve en une position quelconque d'une zone mobile ; un réseau de têtes de détection (401) capable de déterminer si un faisceau de lumière est ombré en étant utilisé pour une mesure auxiliaire d'une position de la plate-forme mobile (101) ; et à déterminer une position de la plate-forme mobile (101) qui correspond à la première lumière de mesure (204) mesurée par le réseau de détecteurs sensibles à la position (301), de façon à calculer le déplacement de la plate-forme mobile (101). Le procédé agrandit efficacement une plage de mesure du réseau de détecteurs sensibles à la position (301), et implémente la mesure d'un déplacement de grande amplitude de la plate-forme mobile (101).
(ZH) 一种大行程运动台位移测量方法,该方法包括:将光路分配装置(201)生成的多束相互平行的第一测量光(204)与位置敏感探测器(301)阵列按照一定的方式排布,保证运动台(101)在运动区域内任意位置均至少有1束第一测量光(204)被位置敏感探测器(301)阵列检测到;能够判断光束是否被遮挡的探测头(401)阵列用于所述运动台(101)位置的辅助测量;确定所述位置敏感探测器(301)阵列所测的第一测量光(204)对应的运动台(101)位置,进而解算所述运动台(101)位移量。该方法有效地扩大了位置敏感探测器(301)的测量范围,实现了运动台(101)长行程位移量的测量。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)