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1. (WO2013158593) CRITICAL DIMENSION UNIFORMITY MONITORING FOR EXTREME ULTRA-VIOLET RETICLES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/158593    International Application No.:    PCT/US2013/036702
Publication Date: 24.10.2013 International Filing Date: 16.04.2013
IPC:
G01B 11/24 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), G01N 21/88 (2006.01)
Applicants: KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; One Technology Way Milpitas, California 95035 (US)
Inventors: SHI, Rui-fang; (US).
POKROVSKIY, Alex; (US).
SEZGINER, Abdurrahman; (US).
SOUSA, Weston L.; (US)
Agent: OLYNICK, Mary R.; Kwan & Olynick LLP 2000 Hearst Street, Ste. 305 Berkeley, CA 94709 (US)
Priority Data:
61/635,141 18.04.2012 US
Title (EN) CRITICAL DIMENSION UNIFORMITY MONITORING FOR EXTREME ULTRA-VIOLET RETICLES
(FR) SURVEILLANCE D'UNIFORMITÉ DE DIMENSION CRITIQUE POUR RÉTICULES EN ULTRAVIOLET EXTRÊME (EUV)
Abstract: front page image
(EN)Disclosed are methods and apparatus for facilitating an inspection of a sample using an optical inspection tool. An optical inspection tool is used to obtain an optical image or signal from an EUV reticle that specifies an intensity variation across the EUV reticle, and this intensity variation is converted to a CD variation that removes a flare correction CD variation so as to generate a critical dimension uniformity (CDU) map without the flare correction CD variation. This removed flare correction CD variation originates from design data for fabricating the EUV reticle, and such flare correction CD variation is generally designed to compensate for flare differences that are present across a field of view (FOV) of a photolithography tool during a photolithography process. The CDU map is stored in one or more memory devices and/or displayed on a display device, for example, of the inspection tool or a photolithography system.
(FR)La présente invention porte sur des procédés et sur un appareil qui facilitent l'inspection d'un échantillon à l'aide d'un outil d'inspection optique. Un outil d'inspection optique est utilisé pour obtenir une image ou un signal optique provenant d'un réticule en ultraviolet extrême (EUV) qui spécifie une variation d'intensité de part et d'autre du réticule EUV, et cette variation d'intensité est convertie en une variation CD qui supprime une variation CD de correction de lumière parasite de manière à générer une carte d'uniformité de dimension critique (CDU) exempte de la variation CD de correction de lumière de parasite. Cette variation CD de correction de lumière parasite supprimée est issue de données de conception de fabrication du réticule EUV, et une telle variation CD de correction de lumière parasite est généralement conçue pour compenser des différences de lumière parasite qui sont présentes de part et d'autre d'un champ de vision (FOV) d'un outil de photolithographie pendant un processus de photolithographie. La carte de CDU est stockée dans un ou plusieurs dispositifs de mémoire et/ou affichée sur un dispositif d'affichage, par exemple, de l'outil d'inspection ou d'un système de photolithographie.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)