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1. (WO2013157459) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PROCESS FOR PRODUCING CURED FILM, CURED FILM, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE, AND LIQUID-CRYSTAL DISPLAY DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/157459    International Application No.:    PCT/JP2013/060816
Publication Date: 24.10.2013 International Filing Date: 10.04.2013
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01), H05B 33/22 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventors: YAMADA Satoru; (JP).
KASHIWAGI Daisuke; (JP).
SATAKE Ryo; (JP)
Agent: SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Priority Data:
2012-092814 16.04.2012 JP
Title (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PROCESS FOR PRODUCING CURED FILM, CURED FILM, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE, AND LIQUID-CRYSTAL DISPLAY DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM DURCI, FILM DURCI, DISPOSITIF D'AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT (EL) ORGANIQUE ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
(JA) 感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、有機EL表示装置および液晶表示装置
Abstract: front page image
(EN)Provided is a photosensitive resin composition which is excellent in terms of all of sensitivity, adhesion, and high-temperature transparency. The photosensitive resin composition comprises (A) a polymer component which comprises one or more polymers satisfying the following (1) and/or (2), (B) a photo-acid generator, (C) a compound represented by general formula (I), and (D) a solvent: (1) a polymer having (a1) structural units having a residue formed by protecting an acid group with an acid-decomposable group and (a2) structural units having a crosslinkable group; and (2) a polymer having (a1) structural units having a residue formed by protecting an acid group with an acid-decomposable group and a polymer having (a2) structural units having a crosslinkable group.
(FR)L'invention concerne une composition de résine photosensible qui est excellente en tous termes de sensibilité, d'adhérence et de transparence à température élevée. La composition de résine photosensible comprend (A) un composant polymère qui comprend un ou plusieurs polymères satisfaisant le (1) et/ou (2) suivants, (B) un générateur de photo-acide, (C) un composé représenté par la formule générale (I) et (D) un solvant : (1) un polymère ayant (a1) des unités structurales ayant un reste formé par protection d'un groupe acide par un groupe décomposable par un acide et (a2) des unités structurales ayant un groupe réticulable ; et (2) un polymère ayant (a1) des unités structurales ayant un reste formé par protection d'un groupe acide par un groupe décomposable par un acide et un polymère ayant (a2) des unités structurales ayant un groupe réticulable.
(JA)感度および密着性、耐熱透明性のすべてに優れた感光性樹脂組成物の提供。(A)下記(1)および(2)の少なくとも一方を満たす重合体を含む重合体成分、 (1)(a1)酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位、および(a2)架橋性基を有する構成単位を有する重合体、(2)(a1)酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位を有する重合体、および(a2)架橋性基を有する構成単位を有する重合体、(B)光酸発生剤、(C)下記一般式(I)で表される化合物、および、(D)溶剤を含有する感光性樹脂組成物。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)