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1. (WO2013156647) COMPOSITION FOR SKIN HYGIENE AND/OR HYDRATION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/156647    International Application No.:    PCT/ES2013/070237
Publication Date: 24.10.2013 International Filing Date: 15.04.2013
Chapter 2 Demand Filed:    14.02.2014    
IPC:
A61K 8/39 (2006.01), A61Q 19/10 (2006.01), A61K 8/92 (2006.01), A61K 8/06 (2006.01)
Applicants: KAO CORPORATION, S.A. [ES/ES]; Puig dels Tudons, 10 E-08210 Barberá del Vallés - Barcelona (ES)
Inventors: CASTÁN BARBERÁN, Pilar; (ES).
RODRÍGUEZ COSTERO, Judit; (ES)
Agent: ARIAS SANZ, Juan; ABG Patentes, S.L. Avenida de Burgos, 16D Edificio Euromor E-28036 Madrid (ES)
Priority Data:
P201200412 16.04.2012 ES
Title (EN) COMPOSITION FOR SKIN HYGIENE AND/OR HYDRATION
(ES) COMPOSICIÓN PARA LA LIMPIEZA Y/O HIDRATACIÓN DE LA PIEL
(FR) COMPOSITION POUR L'HYGIÈNE ET/OU L'HYDRATATION DE LA PEAU
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to a composition for cleaning and/or hydrating the skin. More specifically, the invention relates to compositions that provide a cosmetic or dermatological composition for cleaning and/or hydrating the skin, preferably compositions used in the shower or bath, comprising: a) at least one alkyl ether carboxylate; b) at least one ethoxylated glycerol ester; c) at least one oily substance; d) water; e) optionally, one or more emulsifiers; f) optionally, additional surface-active agents; and g) cosmetically or pharmaceutically acceptable active principles or excipients. The composition is characterised in that it contains at least 20 wt.-%, and preferably at least 30 wt.-%, of component (c) in relation to the total weight of active material in the composition. In addition, the invention relates to a method for cleaning and/or hydrating the skin using the compositions of the invention.
(ES)Composición para la limpieza y/o hidratación de la piel Las composiciones de la invención, que proporcionan una composición cosmética o dermatológica para la limpieza y/o hidratación de la piel, preferiblemente composiciones utilizadas para la ducha o baño, comprenden: a)al menos un alquil éter carboxilato, b)al menos un éster de glicerina etoxilado, c)al menos una sustancia oleosa, d)agua, e)opcionalmente uno o más emulsionantes, f)opcionalmente tensioactivos adicionales, y g)opcionalmente excipientes o principios activos cosméticamente o farmacéuticamente aceptables; que se caracteriza por contener un mínimo del 20 % en peso, preferiblemente del 30%en peso,del componente (c) con respecto al peso total de materia activa de la composición. Adicionalmente, la invención proporciona un método para limpiar y/o hidratar la piel empleando las composiciones de la invención.
(FR)L'invention concerne une composition de nettoyage et/ou d'hydratation de la peau. Les compositions de l'invention, qui constituent une composition cosmétique ou dermatologique pour le nettoyage et/ou l'hydratation de la peau, de préférence des compositions utilisées pour la douche ou le bain, comprennent : a) au moins un alkyléther carboxylate, b) au moins un ester de glycérine éthoxylé, c) au moins une substance huileuse, d) de l'eau, e) éventuellement un ou plusieurs émulsifiants, f) éventuellement des tensioactifs additionnels, et g) éventuellement des excipients ou des principes actifs acceptables sur les plans cosmétique ou pharmaceutique ; ladite composition étant caractérisée en ce qu'elle contient un minimum de 20 % en poids, de préférence de 30 % en poids, du composant (c) par rapport au poids total de matière active de la composition. L'invention concerne également un procédé pour nettoyer et/ou hydrater la peau à l'aide desdites compositions.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Spanish (ES)
Filing Language: Spanish (ES)