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1. (WO2013156278) OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/156278    International Application No.:    PCT/EP2013/056442
Publication Date: 24.10.2013 International Filing Date: 26.03.2013
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE) (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
SÄNGER, Ingo [DE/DE]; (DE) (US only).
SCHLESENER, Frank [DE/DE]; (DE) (US only)
Inventors: SÄNGER, Ingo; (DE).
SCHLESENER, Frank; (DE)
Agent: FRANK, Hartmut; Bonsmann · Bonsmann · Frank Reichspräsidentenstraße 21-25 45470 Mülheim a.d. Ruhr (DE)
Priority Data:
10 2012 206 153.3 16.04.2012 DE
61/624,429 16.04.2012 US
Title (EN) OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) SYSTÈME OPTIQUE D'APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to an optical system of a microlithographic projection exposure apparatus, in particular for operation in the EUV, comprising at least one polarization-influencing arrangement (100, 200,...) having a first reflection surface (110, 210,...) and a second reflection surface (120, 220,...), wherein the first reflection surface (110, 210,...) and the second reflection surface (120, 220,...) are arranged at an angle of 0°±10° or at an angle of 90°±10° relative to one another, wherein light incident on the first reflection surface (110, 210,...) during the operation of the optical system forms an angle of 45°±5° with said first reflection surface, and wherein the polarization-influencing arrangement (100, 200,...) is rotatable about a rotation axis (A) running parallel to the light propagation direction of light incident on the first reflection surface (110, 210,...) during the operation of the optical system.
(FR)La présente invention concerne un système optique d'appareil d'exposition par projection microlithographique, en particulier pour fonctionnement dans l'ultraviolet extrême (EUV), comprenant au moins un agencement influençant la polarisation (100, 200, …) ayant une première surface de réflexion (110, 210, …) et une seconde surface de réflexion (120, 220, …), la première surface de réflexion (110, 210, …) et la seconde surface de réflexion (120, 220, …) étant agencées à un angle de 0°±10° ou à un angle de 90°±10° l'une par rapport à l'autre, une lumière incidente sur la première surface de réflexion (110, 210, …) durant le fonctionnement du système optique formant un angle de 45°±5° avec ladite première surface de réflexion, et l'agencement influençant la polarisation (100, 200, …) étant apte à tourner autour d'un axe de rotation (A) courant parallèle à la direction de propagation de lumière d'une lumière incidente sur la première surface de réflexion (110, 210, …) durant le fonctionnement du système optique.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)