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1. (WO2013156251) OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD FOR ADJUSTING AN OPTICAL SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2013/156251 International Application No.: PCT/EP2013/056079
Publication Date: 24.10.2013 International Filing Date: 22.03.2013
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 26/08 (2006.01) ,G02B 27/28 (2006.01)
Applicants: SÄNGER, Ingo[DE/DE]; DE (US)
PATRA, Michael[DE/DE]; DE (US)
HENNERKES, Christoph[DE/DE]; DE (US)
TRAUTER, Bastian[DE/DE]; DE (US)
CARL ZEISS SMT GMBH[DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW)
Inventors: SÄNGER, Ingo; DE
PATRA, Michael; DE
HENNERKES, Christoph; DE
TRAUTER, Bastian; DE
Agent: FRANK, Hartmut; BONSMANN · BONSMANN · FRANK Patentanwälte Reichspräsidentenstrasse 21-25 45470 Mülheim a.d. Ruhr, DE
Priority Data:
10 2012 206 148.716.04.2012DE
61/624,43416.04.2012US
Title (EN) OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD FOR ADJUSTING AN OPTICAL SYSTEM
(FR) SYSTÈME OPTIQUE D'APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE RÉGLAGE DE SYSTÈME OPTIQUE
Abstract: front page image
(EN) The invention relates to an optical system of a microlithographic projection exposure apparatus, and to a method for adjusting an optical system. An optical system comprises a mirror arrangement (120, 200, 400, 500, 800, 900) having a plurality of mirror elements (120a, 120b, 120c,... ) which are adjustable independently of one another for the purpose of changing an angular distribution of the light reflected by the mirror arrangement, a polarization-influencing optical arrangement (110) having at least one polarization-influencing component (111, 112, 113, 310, 320, 411, 511), wherein, by displacing said polarization-influencing component, a degree of overlap between the polarization-influencing component and the mirror arrangement can be set in a variable manner, and a light coupling-out region (630, 730, 830, 930), which, for the purpose of taking account of a possible incorrect positioning of the polarization-influencing component, couples out light from the beam path of the optical system in such a way that no light passes into a pupil plane of the projection exposure apparatus from a partial region of the mirror arrangement during the operation of the optical system.
(FR) La présente invention concerne un système optique d'appareil d'exposition par projection microlithographique et un procédé de réglage de système optique. La présente invention porte également sur un système optique qui comprend un agencement de miroirs (120, 200, 400, 500, 800, 900) ayant une pluralité d'éléments de miroir (120a, 120b, 120c, …) qui sont aptes à être réglés indépendamment les uns des autres afin de changer une distribution angulaire de la lumière réfléchie par l'agencement de miroirs, un agencement optique influençant la polarisation (110) ayant au moins un composant influençant la polarisation (111, 112, 113, 310, 320, 411, 511), dans lequel, par déplacement dudit composant influençant la polarisation, un degré de recouvrement entre le composant influençant la polarisation et l'agencement de miroirs peut être réglé d'une manière variable, et une région de découplage de lumière (630, 730, 830, 930), qui, afin de prendre en compte un positionnement incorrect possible du composant influençant la polarisation, découple une lumière provenant du trajet de faisceau du système optique d'une telle façon qu'aucune lumière ne passe dans un plan de pupille de l'appareil d'exposition par projection depuis une région partielle de l'agencement de miroirs durant le fonctionnement du système optique.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)