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1. (WO2013155840) ARRAY SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND DISPLAY DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2013/155840 International Application No.: PCT/CN2012/085181
Publication Date: 24.10.2013 International Filing Date: 23.11.2012
IPC:
H01L 21/77 (2006.01) ,H01L 21/12 (2006.01) ,G02F 1/1368 (2006.01)
Applicants: BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD.[CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015, CN
Inventors: LIU, Xiang; CN
Agent: LIU, SHEN & ASSOCIATES; A0601, Huibin Building, No.8 Beichen Dong Street Chaoyang District Beijing 100101, CN
Priority Data:
201210119036.220.04.2012CN
Title (EN) ARRAY SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND DISPLAY DEVICE
(FR) SUBSTRAT DE MATRICE, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(ZH) 阵列基板及其制造方法和显示装置
Abstract: front page image
(EN) Provided are a display device, and an array substrate and a manufacturing method thereof. In the manufacturing method, required patterns can be formed only through three lithographic processes, in which one lithographic process is performed to form a semiconductor layer pattern and an etch-stop layer pattern. Compared with a method in which two lithographic processes need to be performed to form a semiconductor layer pattern and an etch-stop layer pattern respectively, the present invention can reduce one lithographic process, thereby greatly reducing the cost and improving the production efficiency.
(FR) L'invention concerne un dispositif d'affichage, un substrat de matrice et un procédé de fabrication associé. Au cours du procédé de fabrication, les motifs requis peuvent être formés par l'intermédiaire de seulement trois processus lithographiques, un processus lithographique étant mis en œuvre pour former un motif de couche semi-conductrice et un motif de couche d'arrêt de gravure. En comparaison d'un procédé au cours duquel deux processus lithographiques nécessitent d'être mis en œuvre pour former un motif de couche semi-conductrice et un motif de couche d'arrêt de gravure respectivement, la présente invention peut supprimer un processus lithographique, ce qui permet de réduire considérablement les frais et d'améliorer l'efficacité de la production.
(ZH) 提供了一种显示装置、阵列基板及其制造方法。在制造方法中,仅通过三次光刻工艺,即可形成所需要的图案,其中,通过一次光刻工艺就形成了包括半导体层图案和刻蚀阻挡层图案,相比于采用两次光刻工艺分别形成半导体层图案和刻蚀阻挡层图案的方法,能够减少一次光刻工艺,从而可以大大降低成本并提高生产效率。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)