WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2013155799) COLOUR FILTER AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/155799    International Application No.:    PCT/CN2012/078546
Publication Date: 24.10.2013 International Filing Date: 12.07.2012
IPC:
G02B 5/20 (2006.01), G02F 1/1335 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; NO.9-2,Tangming Rd, Guangming New District Shenzhen, Guangdong 518132 (CN) (For All Designated States Except US).
CHEN, Hsiao-hsien [CN/CN]; (CN) (For US Only)
Inventors: CHEN, Hsiao-hsien; (CN)
Agent: CENFO INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY; Room 210-212, 2/F, Building "Golden" Design Industrial Park, No.3838, Nanshan Road Nanshan District (Block 11, Industrial Village of Former Nantou Cheng) Shenzhen, Guangdong 518052 (CN)
Priority Data:
201210118843.2 20.04.2012 CN
Title (EN) COLOUR FILTER AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
(FR) FILTRE COLORÉ ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CE DERNIER
(ZH) 彩色滤光片及其制作方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed are a colour filter and a manufacturing method therefor. The manufacturing method comprises: forming black matrixes (120) on a substrate (110); filling a pigment material between the black matrixes, and forming a colour resistance unit (130), the pigment material being a photosensitive material; exposing the colour resistance unit, the exposure energy of each part of the colour resistance unit being different; and developing the colour resistance unit to form colour resistance (140). The cross connection area of the colour resistance and the black matrixes is flatter than that of the colour resistance unit and the black matrixes, and therefore, the surface of a transparent electrode layer (150) which covers the cross connection area is flatter, thereby making the arrangement of liquid crystal molecules on a transparent conducting layer consistent, and increasing the contrast value of a colour filter.
(FR)La présente invention se rapporte à un filtre coloré et à un procédé de fabrication de ce dernier. Le procédé de fabrication consiste à : former des matrices à fond noir (120) sur un substrat (110) ; remplir, avec un matériau de pigment, l'espace entre les matrices à fond noir et former une unité de stabilité de teinte (130), le matériau de pigment étant un matériau photosensible ; exposer l'unité de stabilité de teinte, l'énergie d'exposition de chaque partie de l'unité de stabilité de teinte étant différente ; et développer l'unité de stabilité de teinte afin de former une stabilité de teinte (140). L'aire de connexion croisée de la stabilité de teinte et des matrices à fond noir est plus plate que celle de l'unité de stabilité de teinte et des matrices à fond noir et, par conséquent, la surface d'une couche d'électrode transparente (150) qui recouvre l'aire de connexion croisée est plus plate, ce qui permet de rendre régulier l'agencement de molécules de cristaux liquides sur une couche conductrice transparente, et d'augmenter la valeur de contraste d'un filtre coloré.
(ZH)公开了一种彩色滤光片及其制作方法。制作方法包括:在基板(110)上形成黑矩阵(120);在黑矩阵之间填充色素材料,并形成色阻单元(130),色素材料为感光材料;对色阻单元进行曝光,色阻单元各部分所受到的曝光能量不同;对色阻单元进行显影形成色阻(140),色阻与黑矩阵的交接区比色阻单元与黑矩阵的交接区平坦,因此覆盖在交接区的透明电极层(150)的表面也比较平坦,从而使液晶分子在透明导电层上的排列一致,提高了彩色滤光片的对比值。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)