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1. (WO2013154582) METHOD OF MOLDING SIMPLE OR COMPLEX MICRO AND/OR NANOPATTERNED FEATURES ON BOTH PLANAR OR NON-PLANAR MOLDED OBJECTS AND SURFACES AND THE MOLDED OBJECTS PRODUCED USING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/154582    International Application No.:    PCT/US2012/033583
Publication Date: 17.10.2013 International Filing Date: 13.04.2012
IPC:
B29C 43/02 (2006.01), B29C 59/02 (2006.01), B29C 33/42 (2006.01)
Applicants: NANOGRIPTECH, LLC [US/US]; 91 43rd St., Suite 200 Pittsburgh, PA 15201 (US) (For All Designated States Except US).
SITTI, Metin [US/US]; (US) (For US Only).
GLASS, Paul [US/US]; (US) (For US Only).
AKSAK, Burak [TR/US]; (US) (For US Only)
Inventors: SITTI, Metin; (US).
GLASS, Paul; (US).
AKSAK, Burak; (US)
Agent: OBERDICK, David, G.; Meyer, Unkovic & Scott LLP 535 Smithfield Street, Suite 1300 Pittsburgh, PA 15222 (US)
Priority Data:
Title (EN) METHOD OF MOLDING SIMPLE OR COMPLEX MICRO AND/OR NANOPATTERNED FEATURES ON BOTH PLANAR OR NON-PLANAR MOLDED OBJECTS AND SURFACES AND THE MOLDED OBJECTS PRODUCED USING SAME
(FR) PROCÉDÉ PERMETTANT DE MOULER DES ÉLÉMENTS SIMPLES OU COMPLEXES À MICROMOTIFS ET/OU NANOMOTIFS À LA FOIS SUR DES OBJETS MOULÉS PLANS OU NON PLANS ET DES SURFACES PLANES OU NON PLANES ET OBJETS MOULÉS PRODUITS À L'AIDE DE CE DERNIER
Abstract: front page image
(EN)The present invention is a method that (i) allows for creating micro and/or nanostructures on either planar or non-planar three-dimensional surfaces in a single molding step, and (ii) allows for the molded production of complex high-aspect ratio micro and/or nanostructures including but not limited to cylinders, conical structures, low aspect-ratio channels, bumps, or posts. An example of such a complex structure are high aspect ratio pillars with enlarged "mushroom-shaped" or undercut tips which demonstrate enhanced, repeatable adhesion and shear strength on a variety of substrates when compared with other micro and/or nanostructures and unstructured materials. The mold of such a material requires an "undercut" feature that cannot be produced using typical micro/nano-molding processing techniques.
(FR)La présente invention se rapporte à un procédé qui : (i) permet de créer des microstructures et/ou des nanostructures sur des surfaces tridimensionnelles soit planes, soit non places au cours d'une seule étape de moulage et (ii) permet la production moulée de microstructures et/ou des nanostructures complexes à facteur de forme élevé, y compris, mais non limités à, des cylindres, des structures coniques, des canaux à facteur de forme faible, des bosses ou des montants. Un exemple d'une telle structure complexe consiste en des piliers à facteur de forme élevé ayant des bouts agrandis « en forme de champignon » ou en surplomb qui présentent une meilleure adhésion susceptible d'être répétée et une meilleure résistance au cisaillement sur une grande variété de substrats lorsqu'elle est comparée à d'autres microstructures et/ou des nanostructures et à d'autres matériaux non structurés. Le moule d'un tel matériau requiert un élément « en surplomb » qui ne peut pas être produit à l'aide des techniques de traitement de micro/nanomoulage classiques.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)