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1. (WO2013153992) METHOD FOR PRODUCING HARD DISK SUBSTRATE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/153992    International Application No.:    PCT/JP2013/060093
Publication Date: 17.10.2013 International Filing Date: 02.04.2013
IPC:
G11B 5/84 (2006.01), G11B 5/73 (2006.01)
Applicants: TOYO KOHAN CO., LTD. [JP/JP]; 2-12, Yonban-cho, Chiyoda-ku, Tokyo 1028447 (JP)
Inventors: ISHIDA Gen; (JP).
MUKAI Nobuaki; (JP).
YOSHIDA Takahiro; (JP)
Agent: HIRAKI Yusuke; Atago Green Hills MORI Tower 32F, 5-1, Atago 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1056232 (JP)
Priority Data:
2012-089682 10.04.2012 JP
Title (EN) METHOD FOR PRODUCING HARD DISK SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN SUBSTRAT DE DISQUE DUR
(JA) ハードディスク用基板の製造方法
Abstract: front page image
(EN)The problem addressed by the present invention is to obtain a hard disk substrate that can obtain a flat plating film surface by means of electroless NiP plating, and that does not have worsened acid corrosion resistance. The method for producing a hard disk substrate having an electroless NiP plating film forms an electroless NiP plating film bottom layer having a lower average surface roughness than a surface of the substrate at the surface of the substrate by immersing the substrate in a first electroless NiP plating bath containing an additive having a leveling effect. Also, the substrate to which the electroless NiP plating film bottom layer has been formed is immersed in a second electroless NiP plating bath, forming an electroless NiP plating top layer having a plating film thickness of at least 4 μm and having acid corrosion resistance.
(FR)L'objectif de cette invention est d'obtenir un substrat de disque dur pourvu d'une surface de film de dépôt plane au moyen d'un dépôt autocatalytique NiP et dont la résistance à la corrosion acide n'est pas amoindrie. Le procédé pour produire un substrat de disque dur pourvu d'un film de dépôt autocatalytique NiP permet de générer une couche inférieure de film de dépôt autocatalytique NiP présentant une rugosité de surface moyenne inférieure à celle d'une surface superficielle du substrat, par immersion du substrat dans une premier bain de dépôt autocatalytique NiP contenant un additif présentant un effet d'étalement. De plus, le substrat sur lequel la couche inférieure de film de dépôt autocatalytique NiP a été formée est immergé dans un deuxième bain de dépôt autocatalytique NiP, de manière à former une couche supérieure de dépôt autocatalytique NiP présentant une épaisseur au moins égale à 4 μm et présentant une résistance élevée à la corrosion acide.
(JA) 本発明は、無電解NiPめっきにより平滑なめっき皮膜の表面を得ることができ、酸耐食性も悪化することがないハードディスク用基板を得ることを課題とする。 本発明のハードディスク用基板の製造方法は、無電解NiPめっき皮膜を有するハードディスク用基板の製造方法であって、平滑化作用を有する添加剤を含有する第1の無電解NiPめっき浴に基板を浸漬して該基板の表面に、該表面よりも平均表面粗さが小さい前記無電解NiPめっき皮膜の下層を形成する。そして、無電解NiPめっき皮膜の下層が形成された基板を、第2の無電解NiPめっき浴に浸漬して酸耐食性を有するめっき膜厚が4μm以上の無電解NiPめっき皮膜の上層を形成する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)