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1. (WO2013153979) MOVING STAGE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/153979    International Application No.:    PCT/JP2013/059855
Publication Date: 17.10.2013 International Filing Date: 01.04.2013
H01L 21/68 (2006.01), H01L 21/268 (2006.01), H01L 21/324 (2006.01)
Applicants: THE JAPAN STEEL WORKS,LTD. [JP/JP]; 11-1, Osaki 1-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1410032 (JP) (For All Designated States Except US).
ITO Daisuke [JP/JP]; (JP) (US only).
SAZUKA Hirotaka [JP/JP]; (JP) (US only).
SAWAI Miki [JP/JP]; (JP) (US only).
SHIDA Junichi [JP/JP]; (JP) (US only)
Inventors: ITO Daisuke; (JP).
SAZUKA Hirotaka; (JP).
SAWAI Miki; (JP).
SHIDA Junichi; (JP)
Agent: YOKOI Koki; 4th Floor, MG Tamachi BLDG., 3-7, Shiba 4-chome, Minato-ku, Tokyo 1080014 (JP)
Priority Data:
2012-092360 13.04.2012 JP
(JA) 移動ステージ
Abstract: front page image
(EN)[Problem] To prevent the disturbance of fine dust due to the movement of a moving stage by being lifted by gas, the moving stage being used within a processing chamber in which the atmosphere is regulated. [Solution] A moving stage (3) disposed within a processing chamber (2) for processing an object to be processed (semiconductor substrate (100)) in a regulated atmosphere, the moving stage being provided with a stage main body (30) on which the object to be processed is placed, and a gas supporting unit for supporting the stage main body (30) in a non-contact manner by means of gas pressure, wherein the gas supporting unit has one or multiple gas pads (35) which is disposed along the horizontal surface and/or the vertical surface of the processing chamber (2) and which blows gas on the aforementioned surfaces, a fine dust suction port (42) is disposed on the periphery of the gas pad (35), and a suction gas exhaust line (suction gas exhaust tube (43)) which is in communication with the fine dust suction port (42) and which extends towards the outside of the processing chamber is disposed.
(FR)Cette invention concerne un étage mobile, permettant d'éviter les perturbations des poussières fines du fait du déplacement dudit étage mobile soulevé par gaz, ledit étage mobile étant utilisé à l'intérieur d'une chambre de traitement à atmosphère contrôlée. Ledit étage mobile (3) est disposé dans une chambre de traitement (2) destinée au traitement d'un objet à traiter (substrat semi-conducteur (100)) sous atmosphère contrôlée. L'étage mobile comprend un corps principal d'étage (30) sur lequel est disposé l'objet à traiter, et une unité de support par le gaz pour supporter sans contact, par pression gazeuse, le corps principal d'étage (30). Ladite unité de support par le gaz comprend : un ou plusieurs tampon(s) à gaz (35) disposé(s) sur le long de la surface horizontale et/ou de la surface verticale de la chambre de traitement et soufflant un gaz sur lesdites surfaces ; un orifice d'aspiration de poussières fines (42) disposé sur la périphérie du tampon à gaz (35) ; et une ligne d'évacuation de gaz d'aspiration (tuyau d'évacuation de gaz d'aspiration (43)) qui communique avec l'orifice d'aspiration de poussières fines (42) et qui s'étend vers l'extérieur de la chambre de traitement.
(JA)【課題】雰囲気調整された処理室内で使用されるガス浮上を利用した移動ステージの移動による微粒粉塵の巻き上げを防止する。 【解決手段】調整された雰囲気下で被処理体(半導体基板100)の処理を行う処理室(2)内に設置される移動ステージ(3)において、被処理体が配置されるステージ本体(30)と、ステージ本体(30)をガス圧によって非接触で支持するガス支持部を有し、ガス支持部は、少なくとも処理室(2)の横面または/および縦面に面して前記面にガスが吹き出される一または複数のガスパッド(35)を有し、ガスパッド(35)の周囲に微粒粉塵吸引口(42)が設けられ、微粒粉塵吸引口(42)に連通して前記処理室外に伸長する吸引ガス排気ライン(吸引ガス排気管43)が設けられる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)