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1. (WO2013148607) APPARATUS AND METHODS FOR RETICLE HANDLING IN AN EUV RETICLE INSPECTION TOOL
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/148607    International Application No.:    PCT/US2013/033769
Publication Date: 03.10.2013 International Filing Date: 25.03.2013
IPC:
G03F 1/84 (2012.01)
Applicants: KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, CA 95035 (US)
Inventors: CHILESE, Francis, Charles; (US).
POHLMANN, Ulrich; (DE).
WOLTER, Detlef; (DE).
WALSH, Joseph, Fleming; (US)
Agent: MCANDREWS, Kevin; KLA-Tencor Corporation Legal Department One Technology Drive Milpitas, CA 95035 (US)
Priority Data:
61/616,344 27.03.2012 US
61/738,351 17.12.2012 US
13/791,470 08.03.2013 US
Title (EN) APPARATUS AND METHODS FOR RETICLE HANDLING IN AN EUV RETICLE INSPECTION TOOL
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉS DE MANIPULATION DE RÉTICULE DANS UN OUTIL D'INSPECTION DE RÉTICULE À RAYONNEMENT UV EXTRÊME
Abstract: front page image
(EN)Systems and methods to control particle generation in a reticle inspection system are presented. The number of particles added to a reticle during an entire load-inspect-unload sequence of a reticle inspection system is reduced by performing all reticle contact events in a controlled, flowing air environment. In one embodiment, the reticle is fixed to a carrier by clamping outside of the vacuum environment, and the carrier, rather than the reticle, is coupled to the reticle stage of the inspection system. In this manner, the high levels of back-side particulation associated with electrostatic chucking are avoided. In addition, the carrier is configured to be coupled to the reticle stage in any of four different orientations separated by ninety degrees.
(FR)La présente invention concerne des systèmes et des procédés permettant de contrôler la génération de particules dans un système d'inspection de réticule. Selon l'invention, le nombre de particules ajoutées à un réticule pendant une séquence de charge-inspection-décharge complète d'un système d'inspection de réticule est réduit en exécutant l'ensemble des événements de contact de réticule dans un environnement d'air en circulation contrôlé. Selon un mode de réalisation, le réticule est fixé à un support par serrage à l'extérieur de l'environnement sous vide, et le support, plutôt que le réticule, est accouplé à la platine à réticule du système d'inspection. De cette manière, on évite les niveaux élevés de formation de particules côté arrière associés au serrage électrostatique. De plus, le support est conçu pour être accouplé à la platine à réticule dans l'une quelconque parmi quatre orientations différentes séparées à quatre-vingt-dix degrés.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)