WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2013147315) METHOD OF FORMING PATTERN, PHOTOMASK AND NANOIMPRINT MOLD MASTER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/147315    International Application No.:    PCT/JP2013/060142
Publication Date: 03.10.2013 International Filing Date: 27.03.2013
IPC:
G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/32 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventors: TSUCHIHASHI, Toru; (JP).
USA, Toshihiro; (JP).
SEKI, Tomokazu; (JP).
TAKANO, Ikuo; (JP)
Agent: KURATA, Masatoshi; c/o SUZUYE & SUZUYE, 6th floor, Kangin-Fujiya Bldg. 1-3-2, Toranomon, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Priority Data:
2012-075089 28.03.2012 JP
Title (EN) METHOD OF FORMING PATTERN, PHOTOMASK AND NANOIMPRINT MOLD MASTER
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, PHOTOMASQUE ET MOULE MAÎTRE DE NANOIMPRESSION
Abstract: front page image
(EN)Provided is a method of forming a pattern, including forming a film of an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition on a substrate, exposing the film to actinic rays or radiation and developing the exposed film with a developer to thereby obtain a fine pattern, characterized in that the actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition comprises a polymeric compound (A) containing any of repeating units of general formula (I) below, and that the developer comprises tetrapropylammonium hydroxide.
(FR)L'invention concerne un procédé de formation d'un motif, comprenant la formation d'un film d'une composition de résine sensible à un rayon actinique ou à un rayonnement sur un substrat, l'exposition du film à des rayons actiniques ou à un rayonnement et le développement du film exposé par un développeur pour obtenir par là un motif fin, caractérisé en ce que la composition de résine sensible à un rayon actinique ou à un rayonnement comprend un composé polymère (A) contenant n'importe laquelle des unités répétitives de la formule générale (I) ci-après, et en ce que le développeur comprend de l'hydroxyde de tétrapropylammonium.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)