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1. (WO2013147311) PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION USED THEREIN, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME, AND ELECTRONIC DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2013/147311 International Application No.: PCT/JP2013/060138
Publication Date: 03.10.2013 International Filing Date: 27.03.2013
IPC:
G03F 7/004 (2006.01) ,C07C 39/17 (2006.01) ,C07C 69/734 (2006.01) ,C07C 69/96 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/32 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM CORPORATION[JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Inventors: TAKAHASHI, Hidenori; JP
Agent: TAKAMATSU, Takeshi; Koh-Ei Patent Firm, Toranomon East Bldg. 9F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003, JP
Priority Data:
2012-07254127.03.2012JP
Title (EN) PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION USED THEREIN, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME, AND ELECTRONIC DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, COMPOSITION SENSIBLE À UN RAYON ACTINIQUE OU SENSIBLE À UN RAYONNEMENT UTILISÉE DANS CELUI-CI, FILM DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE L'UTILISANT, ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
Abstract:
(EN) There is provided a pattern forming method comprising (i) a step of forming a film by using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition containing (A) a non-polymeric acid-decomposable compound having an aromatic ring and a molecular weight of 500 to 5,000 and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation; (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of performing development by using an organic solvent-containing developer to form a negative pattern.
(FR) L'invention concerne un procédé de formation de motif comprenant (i) une étape de formation d'un film par utilisation d'une composition sensible à un rayon actinique ou sensible à un rayonnement contenant (A) un composé décomposable par un acide, non polymère, ayant un noyau aromatique et une masse moléculaire de 500 à 5000 et (B) un composé pouvant générer un acide lors d'une irradiation par un rayon actinique ou un rayonnement ; (ii) une étape d'exposition du film et (iii) une étape de réalisation d'un développement par utilisation d'un développeur contenant un solvant organique pour former un motif négatif.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)