WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2013146677) SWASH PLATE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/146677    International Application No.:    PCT/JP2013/058567
Publication Date: 03.10.2013 International Filing Date: 25.03.2013
Chapter 2 Demand Filed:    23.01.2014    
IPC:
F04B 27/08 (2006.01)
Applicants: TAIHO KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 65, Midorigaoka 3-chome, Toyota-shi, Aichi 4718502 (JP)
Inventors: SHIBATA Masato; (JP).
YAMANE Kyohei; (JP).
GOTO Shingo; (JP)
Agent: YANO Juichiro; YANO INTERNATIONAL PATENT OFFICE, Twin 21 MID Tower 34th Floor, 1-61, Shiromi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5406134 (JP)
Priority Data:
2012-069610 26.03.2012 JP
Title (EN) SWASH PLATE
(FR) PLATEAU OSCILLANT
(JA) 斜板
Abstract: front page image
(EN)The outer periphery of the end surface (11B) of a substrate (11) is a chamfer (11C), and the end surface (11B) of the substrate (11) is covered by a resin film layer (12). The thickness of the resin film layer (12) at the chamfer (11C) is thicker than the locations radially further inwards from said chamfer. The surface of the resin film layer (12) on the outer peripheral edge (11B') of the end surface (11B) is coplanar with the surface of the resin film layer (12) further inwards. These locations act as the sliding surface (the surface (2A) of the swash plate (2)) that slides on a shoe (4), and compared with conventional techniques, because the resin film layer (12) in the outer peripheral edge (11B') is thick, attrition of the portion being pressed against the shoe (4) is suppressed. For that reason, the outer peripheral edge (11B') of the substrate (11) and the vicinity thereof are prevented from being exposed, and seizure of the swash plate (2) can be prevented.
(FR)Selon la présente invention, la périphérie externe de la surface d'extrémité (11B) d'un substrat (11) est un chanfrein (11C), et la surface d'extrémité (11B) du substrat (11) est recouverte d'une couche (12) de film de résine. L'épaisseur de la couche (12) de film de résine au niveau du chanfrein (11C) est plus grande que les emplacements situés plus vers l'intérieur de façon radiale à partir dudit chanfrein. La surface de la couche (12) de film de résine sur le bord périphérique externe (11B') de la surface d'extrémité (11B) est coplanaire avec la surface de la couche (12) de film de résine située plus vers l'intérieur. Ces emplacements agissent comme la surface coulissante (la surface [2A] du plateau oscillant [2]) qui coulisse sur un patin (4), et comparativement avec les techniques classiques, du fait que la couche (12) de film de résine dans le bord périphérique externe (11B') est épaisse, l'attrition de la partie appuyée contre le patin (4) est supprimée. C'est la raison pour laquelle le bord périphérique externe (11B') du substrat (11) et son voisinage ne peuvent pas être exposés, et le grippage du plateau oscillant (2) peut être évité.
(JA) 基材11の端面11Bの外周部は面取り部11Cとなっており、基材11の端面11Bは樹脂被膜層12により被覆されている。上記面取り部11Cにおける樹脂被膜層12の厚さは、そこよりも半径方向内方側の箇所よりも厚肉となっている。端面11Bの外周縁11B'における樹脂被膜層12の表面と、そこよりも内方側の樹脂被膜層12の表面とが同一平面となり、それらの箇所がシュー4と摺動する摺動面(斜板2の表面2A)となり、従来と比較すると、上記外周縁11B'における樹脂被膜層12が厚肉となっているので、その部分がシュー4に押圧されて摩滅するのを抑制することができる。そのため、基材11の外周縁11B'とその近傍が露出するのを防止して、斜板2の焼付きを防止できる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)