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1. (WO2013146655) PLASMA PROCESSING APPARATUS AND HIGH FREQUENCY GENERATOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/146655    International Application No.:    PCT/JP2013/058530
Publication Date: 03.10.2013 International Filing Date: 25.03.2013
IPC:
H05H 1/46 (2006.01), C23C 16/511 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01), H03B 9/10 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP)
Inventors: KANEKO, Kazushi; (JP).
FUNAZAKI, Kazunori; (JP).
KATO, Hideo; (JP)
Agent: IMY INTERNATIONAL PATENT OFFICE, P.C.; Oriental Sakaisuji Bldg., 21-19, Shimanouchi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5420082 (JP)
Priority Data:
2012-069735 26.03.2012 JP
Title (EN) PLASMA PROCESSING APPARATUS AND HIGH FREQUENCY GENERATOR
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA ET GÉNÉRATEUR DE HAUTES FRÉQUENCES
(JA) プラズマ処理装置、および高周波発生器
Abstract: front page image
(EN)A plasma processing apparatus (11) is provided with: a processing container (12), in which processing is performed using plasma; a plasma generating mechanism (19), which has a high frequency oscillator that oscillates high frequency, includes a high frequency generator that generates high frequency by being disposed outside of the processing container (12), and which generates plasma in the processing container (12) using the high frequency generated by means of the high frequency generator; a determining mechanism, which determines the state of the high frequency oscillator; and a notifying mechanism, which performs notification of determination results obtained from the determining mechanism.
(FR)L'invention concerne un appareil de traitement au plasma (11) pourvu : de l'enceinte de traitement (12) où le traitement est effectué à l'aide d'un plasma ; d'un mécanisme de génération de plasma (19) qui est doté d'un oscillateur haute fréquence qui oscille des hautes fréquences, comprenant un générateur de hautes fréquences en étant disposé à l'extérieur de l'enceinte de traitement (12), et qui génère un plasma dans l'enceinte de traitement (12) à l'aide de la haute fréquence générée au moyen du générateur haute fréquence ; un mécanisme de détermination, qui détermine l'état de l'oscillateur haute fréquence ; et un mécanisme de signalement, qui réalise un signalement des résultats de détermination obtenus depuis le mécanisme de détermination.
(JA) プラズマ処理装置(11)は、その内部でプラズマによる処理を行う処理容器(12)と、高周波を発振する高周波発振器を有し、処理容器(12)外に配置されて高周波を発生させる高周波発生器を含み、高周波発生器により発生させた高周波を用いて処理容器(12)内にプラズマを発生させるプラズマ発生機構(19)と、高周波発振器の状態を判断する判断機構と、判断機構による判断結果を報知する報知機構とを備える。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)