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1. (WO2013146600) UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR SELF-ASSEMBLED FILMS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2013/146600 International Application No.: PCT/JP2013/058333
Publication Date: 03.10.2013 International Filing Date: 22.03.2013
IPC:
C09D 183/04 (2006.01) ,B05D 3/10 (2006.01) ,C09D 5/00 (2006.01) ,G03F 7/11 (2006.01) ,G03F 7/26 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.[JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054, JP
Inventors: Wakayama, Hiroyuki; JP
Nakajima, Makoto; JP
Sakamoto, Rikimaru; JP
Agent: HANABUSA, Tsuneo; c/o Hanabusa Patent Office, Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062, JP
Priority Data:
2012-07180327.03.2012JP
Title (EN) UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR SELF-ASSEMBLED FILMS
(FR) COMPOSITION FILMOGÈNE DE SOUS-COUCHE POUR FILMS AUTO-ASSEMBLÉS
(JA) 自己組織化膜の下層膜形成組成物
Abstract:
(EN) [Problem] To provide an underlayer film forming composition which is used for an underlayer of a self-assembled film. [Solution] An underlayer film forming composition for self-assembled films, which contains a polysiloxane and a solvent. The polysiloxane is a hydrolysis-condensation product of silanes that include a phenyl group-containing silane. The polysiloxane is a hydrolysis-condensation product of silanes that include a silane represented by formula (1) (wherein R1 represents an alkoxy group, an acyloxy group or a halogen atom; and R2 represents an optionally substituted organic group that contains a benzene ring and is bonded to a silicon atom by an Si-C bond) in an amount of 10-100% by mole of all the silanes. The polysiloxane is a hydrolysis-condensation product of silanes that include silanes represented by formula (1), formula (2) and formula (3) at a ratio by mol% of 10-100:0-90:0-50. R2Si(R1)3 formula (1) R4Si(R3)3 formula (2) Si(R5)4 formula (3)
(FR) L'invention a pour but de proposer une composition filmogène de sous-couche qui est utilisée pour une sous-couche d'un film auto-assemblé. A cet effet, l'invention concerne une composition filmogène de sous-couche pour des films auto-assemblés, qui contient un polysiloxane et un solvant. Le polysiloxane est un produit d'hydrolyse-condensation de silanes qui comprennent un silane à teneur en groupe phényle. Le polysiloxane est un produit d'hydrolyse-condensation de silanes qui comprennent un silane représenté par la formule (1) (formule dans laquelle R1 représente un groupe alcoxy, un groupe acyloxy ou un atome d'halogène ; et R2 représente un groupe organique facultativement substitué qui contient un noyau benzène et est lié à un atome de silicium par une liaison Si-C) dans une quantité de 10-100 % en moles de tous les silanes. Le polysiloxane est un produit d'hydrolyse-condensation de silanes qui comprennent des silanes représentés par la formule (1), la formule (2) et la formule (3) à un rapport en % en moles de 10-100: 0-90: 0-50. R2Si(R1)3 formule (1), R4Si(R3)3 formule (2), Si(R5)4 formule (3).
(JA) 【課題】 自己組織化膜の下層に用いられる下層膜形成組成物を提供する。 【解決手段】 ポリシロキサンと溶剤とを含む自己組織化膜の下層膜形成組成物。ポリシロキサンがフェニル基含有シランを含むシランの加水分解縮合物である。ポリシロキサンが式(1):R2Si(R1)3 式(1) (式中、Rはアルコキシ基、アシルオキシ基、又はハロゲン原子を表す。Rは置換基を有していても良いベンゼン環を含む有機基で且つSi-C結合によりケイ素原子と結合している基を表す。)で表されるシランを全シラン中に10~100モル%の割合で含有するシランの加水分解縮合物である。ポリシロキサンが上記式(1)、下記式(2)、下記式(3)で表されるシランを全シラン中に式(1)で表されるシラン:式(2)で表されるシラン:式(3)で表されるシランをモル%で、10~100:0~90:0~50の割合で含有するシランの加水分解縮合物である。 R4Si(R3)3 式(2)Si(R5)4 式(3)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)