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1. (WO2013145916) MICROWAVE IRRADIATING ANTENNA, MICROWAVE PLASMA SOURCE, AND PLASMA PROCESSING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/145916    International Application No.:    PCT/JP2013/053583
Publication Date: 03.10.2013 International Filing Date: 14.02.2013
IPC:
H05H 1/46 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01), H01P 5/103 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1 Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP)
Inventors: IKEDA Taro; (JP).
KOMATSU Tomohito; (JP).
KASAI Shigeru; (JP).
NAKAGOMI Jun; (JP)
Agent: TAKAYAMA Hiroshi; Daisan Inoue Bldg. 3F, 5-8-1 Futago, Takatsu-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2130002 (JP)
Priority Data:
2012-072595 27.03.2012 JP
Title (EN) MICROWAVE IRRADIATING ANTENNA, MICROWAVE PLASMA SOURCE, AND PLASMA PROCESSING DEVICE
(FR) ANTENNE À RAYONNEMENT DE MICRO-ONDES, SOURCE DE PLASMA PAR MICRO-ONDES, ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA
(JA) マイクロ波放射アンテナ、マイクロ波プラズマ源およびプラズマ処理装置
Abstract: front page image
(EN)A microwave radiation antenna (45) for irradiating microwaves propagated over a microwave propagation path into a chamber and generating a surface wave plasma has: an antenna unit (121) comprising a conductor; a plurality of slots (122) through which microwaves are irradiated, the slots (122) being provided in the antenna unit (121); and a plurality of gas discharge apertures (125) for discharging a processing gas into the chamber, the gas discharge apertures (125) being provided in the antenna unit (121). A dielectric layer (126) is provided so that a metallic surface wave is formed on a surface by the microwaves, a surface wave plasma is generated by the metallic surface wave, and at least a portion of the metallic surface of the antenna unit (121) is insulated in terms of direct current from the surface wave plasma.
(FR)L'invention concerne une antenne à rayonnement de micro-ondes (45) qui est destinée à émettre à l'intérieur d'une chambre un rayonnement de micro-ondes transmises par un chemin de transmission de micro-ondes, et à générer un plasma à onde de surface. Cette antenne à rayonnement de micro-ondes (45) possède : un corps principal d'antenne (121) constitué d'un conducteur; une pluralité de fentes (122) agencée sur corps principal d'antenne (121), et émettant un rayonnement de micro-ondes; et une pluralité d'orifices de décharge de gaz (125) agencée sur corps principal d'antenne (121), et déchargeant un gaz de traitement à l'intérieur de la chambre. Une onde de surface métallique est formée en surface par les micro-ondes, le plasma à onde de surface est généré par cette onde de surface métallique, et une couche diélectrique (126) est agencée de sorte qu'au moins une partie d'une surface métallique du corps principal d'antenne (121), est isolée de manière galvanique par le plasma à onde de surface.
(JA) マイクロ波伝送路を伝送されたマイクロ波をチャンバ内に放射し、表面波プラズマを生成するためのマイクロ波放射アンテナ(45)は、導体からなるアンテナ本体(121)と、アンテナ本体(121)に設けられた、マイクロ波を放射する複数のスロット(122)と、アンテナ本体(121)に設けられた、処理ガスをチャンバ内に吐出する複数のガス吐出孔(125)とを有し、マイクロ波により表面に金属表面波が形成されて、この金属表面波により表面波プラズマが生成され、アンテナ本体(121)の金属表面の少なくとも一部が表面波プラズマから直流的に絶縁されるように誘電体層(126)が設けられている。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)