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1. (WO2013145798) EXPOSURE WRITING DEVICE AND EXPOSURE WRITING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/145798    International Application No.:    PCT/JP2013/050242
Publication Date: 03.10.2013 International Filing Date: 09.01.2013
IPC:
G03F 9/00 (2006.01), H05K 3/00 (2006.01)
Applicants: ADTEC Engineering Co., Ltd. [JP/JP]; Toranomon 37 Mori Bldg 11F, 3-5-1 Toranomon, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Inventors: HASHIGUCHI, Akihiro; (JP).
KIKUCHI, Hiroaki; (JP).
TSURUI, Hironori; (JP)
Agent: NAKAJIMA, Jun; TAIYO, NAKAJIMA & KATO, Seventh Floor, HK-Shinjuku Bldg., 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Priority Data:
2012-082561 30.03.2012 JP
Title (EN) EXPOSURE WRITING DEVICE AND EXPOSURE WRITING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE GRAVURE PAR INSOLATION ET PROCÉDÉ DE GRAVURE PAR INSOLATION
(JA) 露光描画装置及び露光描画方法
Abstract: front page image
(EN)An exposure writing device is provided with: a first exposure means for writing a circuit pattern on a first face by exposure of the first face of a printed wiring board arranged on a stage; a mark forming means, arranged in a manner so as to be movable with respect to the stage, for forming a plurality of predetermined marks on a second face opposite to the first face during writing of the circuit pattern of the first face on the first face of the printed wiring board; a measurement means for measuring the position of the mark forming means; a detection means for detecting the position of a plurality of marks formed on the second face; and a second exposure means for writing a circuit pattern on the second face by exposure of the second face of the printed wiring board, using as a reference the measured position of the mark forming means and the positions of the plurality of marks that were thus detected.
(FR)L'invention concerne un dispositif de gravure par insolation comprenant un premier moyen d'insolation pour graver un motif de circuit sur une première face par insolation de la première face d'une carte de circuit imprimé placé sur une platine, un moyen de formation de marques agencé de manière à être mobile par rapport à la platine, pour former une pluralité de marques prédéterminées sur une seconde face opposée à la première face pendant la gravure du motif de circuit de la première face sur la première face de la carte de circuit imprimé, un moyen de mesure pour mesurer la position du moyen de formation de marques, un moyen de détection pour détecter la position d'une pluralité de marques formées sur la seconde face, et un deuxième moyen d'insolation pour graver un motif de circuit sur la seconde face par insolation de la seconde face de la carte de circuit imprimé, utilisant comme référence la position mesurée des moyens de formation de marques et les positions de la pluralité de marques qui ont été ainsi détectées.
(JA) ステージに載置されたプリント配線基板の第1面を露光することにより前記第1面に回路パターンを描画する第1露光手段と、ステージに対して相対的に移動可能に設けられ、プリント配線基板の第1面に第1面用の回路パターンの描画処理中に第1面と反対の第2面に予め定められた複数のマークを形成するマーク形成手段と、マーク形成手段の位置を計測する計測手段と、第2面に形成された複数のマークの位置を検出する検出手段と、計測されたマーク形成手段の位置及び検出された複数のマークの位置を基準として、プリント配線基板の第2面を露光することにより第2面に回路パターンを描画する第2露光手段と、を備えた。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)