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1. (WO2013145640) METHOD FOR EVACUATING VACUUM CHAMBER, VACUUM DEVICE, METHOD FOR FORMING ORGANIC FILM, METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC EL ELEMENT, ORGANIC EL DISPLAY PANEL, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE, ORGANIC EL LIGHT EMITTING DEVICE, AND METHOD FOR DETECTING IMPURITIES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/145640    International Application No.:    PCT/JP2013/001873
Publication Date: 03.10.2013 International Filing Date: 19.03.2013
Chapter 2 Demand Filed:    13.09.2013    
IPC:
B01J 3/02 (2006.01), C23C 14/12 (2006.01), F04B 37/16 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
Applicants: PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP)
Inventors: KAWANAMI, Yuko; .
YAMADA, Ryuuta;
Agent: NAKAJIMA, Shiro; 6F, Yodogawa 5-Bankan, 2-1, Toyosaki 3-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5310072 (JP)
Priority Data:
2012-071726 27.03.2012 JP
Title (EN) METHOD FOR EVACUATING VACUUM CHAMBER, VACUUM DEVICE, METHOD FOR FORMING ORGANIC FILM, METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC EL ELEMENT, ORGANIC EL DISPLAY PANEL, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE, ORGANIC EL LIGHT EMITTING DEVICE, AND METHOD FOR DETECTING IMPURITIES
(FR) PROCÉDÉ DE RÉDUCTION DE PRESSION DANS UNE CHAMBRE À VIDE, DISPOSITIF SOUS VIDE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM ORGANIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENT ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE, PANNEAU D'AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE, DISPOSITIF D'AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE, DISPOSITIF DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE ÉLECTROLUMINESCENTE ORGANIQUE, ET PROCÉDÉ DE DÉTECTION D'IMPURETÉS
(JA) 真空チャンバーの減圧方法、真空装置、有機膜の形成方法、有機EL素子の製造方法、有機EL表示パネル、有機EL表示装置、有機EL発光装置および不純物検出方法
Abstract: front page image
(EN)Provided is a method for evacuating a vacuum chamber that reduces to the extent possible impurity contamination within the vacuum chamber. The method includes a roughing step that evacuates a vacuum chamber (1) using a roughing pump (2), which is a mechanical pump that can evacuate the vacuum chamber (1) to an internal pressure of less than 15 [Pa] and a main exhausting step that evacuates the vacuum chamber (1) after the roughing step using a main exhausting pump (3), which is a non-mechanical pump. Transition to the main exhausting step from the roughing step is carried out when the internal pressure of the vacuum chamber (1) is 15 [Pa] or more.
(FR)L'invention fournit notamment un procédé de réduction de pression dans une chambre à vide, selon lequel l'intérieur de la chambre à vide est protégé autant que possible d'une pollution d'impuretés. Ledit procédé inclut : une étape de prévidage au cours de laquelle la pression à l'intérieur de la chambre à vide (1) est réduite à l'aide d'une pompe de prévidage (2) consistant en une pompe mécanique capable de réduire une pression de partie interne de la chambre à vide (1) au-dessous de 15[Pa] ; et une étape d'échappement principal au cours de laquelle, après l'étape de prévidage, la pression à l'intérieur de la chambre à vide (1) est réduite à l'aide d'une pompe d'échappement principal (3) consistant en une pompe mécanique. Le déplacement de l'étape de prévidage vers l'étape d'échappement principal, est effectué lorsque la pression de partie interne de la chambre à vide (1) est supérieure ou égale à 15[Pa].
(JA) 真空チャンバー内が可能な限り不純物汚染されない、真空チャンバーの減圧方法等を提供する。 真空チャンバー1の内部圧力を15[Pa]未満に減圧可能な機械式ポンプである粗引きポンプ2により真空チャンバー1内を減圧する粗引き工程と、粗引き工程後、非機械式ポンプである主排気ポンプ3により真空チャンバー1内を減圧する主排気工程と、を含み、粗引き工程から主排気工程への移行は、真空チャンバー1の内部圧力が15[Pa]以上であるときに行われる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)