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Pub. No.:    WO/2013/145540    International Application No.:    PCT/JP2013/001051
Publication Date: 03.10.2013 International Filing Date: 25.02.2013
G01N 21/01 (2006.01)
Applicants: PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP)
Inventors: KIRIHARA, Masao; .
TSUJI, Koji; .
NAGATANI, Yoshiharu; .
MATSUNAMI, Hirotaka;
Agent: NISHIKAWA, Yoshikiyo; Hokuto Patent Attorneys Office, Umeda Square Bldg., 9F., 12-17, Umeda 1-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300001 (JP)
Priority Data:
2012-081260 30.03.2012 JP
(JA) 赤外線放射素子およびその製造方法
Abstract: front page image
(EN)This infrared radiation element is provided with a substrate, a thin film section that is provided on one surface side of the substrate, and a heat generating material layer that is provided on the thin film section side opposite to the substrate side. The infrared radiation element radiates infrared rays from the heat generating material layer when electricity is carried to the heat generating material layer. The substrate has an opening penetrating in the thickness direction, said opening exposing the thin film section surface on the side opposite to the heat generating material layer side. The thin film section is provided with: a diaphragm section, which isolates the opening and the heat generating material layer from each other; and a supporting section, which is provided on the circumference portion of the opening, said portion being on the one surface side of the substrate, and which supports the diaphragm section. The diaphragm section is provided with a concave section, which is concaved to the opening side. The concave section has a concave inner surface. The heat generating material layer is formed along the inner surface of the concave section.
(FR)L'élément à rayonnement infrarouge est pourvu d'un substrat, d'une section de film mince qui est disposée sur un côté de surface du substrat, et d'une couche de matériau générant de la chaleur, prévue sur le côté de la section de film mince à l'opposé du côté du substrat. L'élément de rayonnement infrarouge rayonne les rayons infrarouge à partir de la couche de matériau de génération de chaleur lorsque de l'électricité est transportée à la couche de matériau de génération de chaleur. Le substrat a une ouverture pénétrant dans la direction de l'épaisseur, ladite ouverture exposant la surface de section de film mince sur le côté opposé au côté de couche de matériau générant de la chaleur. La section de film mince est prévue avec : une section de diaphragme, qui isole l'ouverture et la couche de matériau générant de la chaleur l'une de l'autre ; et une section de support, qui est prévue sur la partie circonférentielle de l'ouverture, ladite partie étant sur le côté de surface du substrat, et qui supporte la section de diaphragme. La section de diaphragme est munie d'une section concave, qui est concave pour le côté d'ouverture. La section concave a une surface interne concave. La couche de matériau de génération de chaleur est formée le long de la surface interne de la section concave.
(JA) 赤外線放射素子は、基板と、基板の一表面側に設けられた薄膜部と、薄膜部における基板側とは反対側に設けられた発熱体層と、を備える。赤外線放射素子は、発熱体層への通電により発熱体層から赤外線が放射される。基板は、薄膜部における発熱体層側とは反対側の表面を露出させる開孔部が厚み方向に貫設されている。薄膜部は、開孔部と発熱体層とを隔離するダイヤフラム部と、基板の上記一表面側で開孔部の周部に設けられダイヤフラム部を支持する支持部と、を備える。ダイヤフラム部は、開孔部側に窪む凹部を備えている。凹部は、内面が凹曲面である。発熱体層は、凹部の内面に沿って形成されている。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)